개요

LCD Process의 C/F 및 Cell & Module 공정과 OLED Process의 Pattern형성 및 Encapsulation 공정에 적용 가능한 설비입니다. 기존 TFT/CF Photolithography 및 Cell 공정에서의 패턴을 Direct로 형성하여 공정/시간/투자비를 줄이는 기술 구현이 가능합니다.

특징

Application
- 다양한 Display 공정 적용 : LCD/OLED/Flexible 등

Outstanding Advantage
- 압력/온도/수위제어 Integration System 구축 → 토출 Volume 최적화 구현
- 각종 제어장치의 Slim化 → 경량화 & Easy Maintenance 구현
- 고객 CoO 향상 → 공정 최적화를 통한 약액 효율 및 생산성 향상

High Performance
- Optimized Meniscus Pressure Control / Target Uniformity ±1% pa
- Drop Volume Uniformity 확보 / Target Uniformity ±0.3%
- Drop Position Accuracy 확보 / Target Position ±15㎛ (X&Y Axis)