(주)씨엔원
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Atomic-Basic
모델명
시리즈
ALD
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제품 상세 설명
Compact reactor Thermal ALD
ㆍCompact ALD Model
ㆍThermal ALD
ㆍWafer Size : ≤ 6″ Wafer
ㆍProcess temperature : up to 250°C
ㆍApplications : Oxide Film(Al2O3), etc
ㆍVery small Volume for process
