(주)씨엔원, 대한민국 - 코머신 판매자 소개 및 제품 소개

- (주)씨엔원은 반도체 및 하이테크 장비 전문 제조업체로, 원자층 증착(ALD) 기술 기반의 장비와 코팅 솔루션을 제공하는 기업. 특히 ALD 장비의 국산화 성공과 지속적인 연구개발을 통해 글로벌 시장 개척에 주력하는 핵심 역량 보유 기업.(주)씨엔원은 반도체 및 하이테크 장비 전문 제조업체로, 원자층 증착(ALD) 기술 기반의 장비와 코팅 솔루션을 제공하는 기업. 특히 ALD 장비의 국산화 성공과 지속적인 연구개발을 통해 글로벌 시장 개척에 주력하는 핵심 역량 보유 기업.
- 주력 제품군은 Atomic Layer Deposition (ALD) 장비로, Atomic-Classic, Atomic-Premium, Atomic-Shell, Atomic-Basic, Atomic-Mega 등의 다양한 모델 보유.주력 제품군은 Atomic Layer Deposition (ALD) 장비로, Atomic-Classic, Atomic-Premium, Atomic-Shell, Atomic-Basic, Atomic-Mega 등의 다양한 모델 보유.
- Atomic-Premium은 샤워헤드 타입의 플라즈마 강화 ALD (PE-ALD) 장비로, 플라즈마 공정 및 처리, 샤워헤드와 기판 간 간격 조절, 다양한 가스 공급 시스템, 소스 공급 완전 분리, ALD/CVD 모드 공정 구성, 우수한 박막 균일도 및 품질, 최대 500°C 공정 온도, 4개의 전구체 캐니스터(표준), 4~12인치 웨이퍼 기판 크기 지원 능력.Atomic-Premium은 샤워헤드 타입의 플라즈마 강화 ALD (PE-ALD) 장비로, 플라즈마 공정 및 처리, 샤워헤드와 기판 간 간격 조절, 다양한 가스 공급 시스템, 소스 공급 완전 분리, ALD/CVD 모드 공정 구성, 우수한 박막 균일도 및 품질, 최대 500°C 공정 온도, 4개의 전구체 캐니스터(표준), 4~12인치 웨이퍼 기판 크기 지원 능력.
- 이 장비는 유전체 박막(Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, ZnO2, ZnS, GST, Laminate films 등), 질화막(AlN, TiN, TiAlN, TaN 등), 금속 박막(Ru, Co, Ti, Ni 등) 증착에 활용.이 장비는 유전체 박막(Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, ZnO2, ZnS, GST, Laminate films 등), 질화막(AlN, TiN, TiAlN, TaN 등), 금속 박막(Ru, Co, Ti, Ni 등) 증착에 활용.
- Atomic-Classic은 트래블링 웨이브 방식의 ALD 시스템을 적용하며, 4~12인치 웨이퍼와 370x470mm 글라스 기판 처리 가능.Atomic-Classic은 트래블링 웨이브 방식의 ALD 시스템을 적용하며, 4~12인치 웨이퍼와 370x470mm 글라스 기판 처리 가능.
- Atomic-Shell은 나노 분말 코팅 ALD 공정을 지원하며, 100cc에서 5L까지 반응기 부피 맞춤화 가능.Atomic-Shell은 나노 분말 코팅 ALD 공정을 지원하며, 100cc에서 5L까지 반응기 부피 맞춤화 가능.
- Atomic-Mega는 퍼니스 타입 반응기로 600°C 이상의 열 ALD 공정을 지원하며, 최대 100개의 기판을 수용하는 웨이퍼 보트 포함.Atomic-Mega는 퍼니스 타입 반응기로 600°C 이상의 열 ALD 공정을 지원하며, 최대 100개의 기판을 수용하는 웨이퍼 보트 포함.
- Coating Solution과 Anneal System도 주요 제품군에 포함.Coating Solution과 Anneal System도 주요 제품군에 포함.
- 반도체 산업의 ALD 및 CVD 관련 공정에 사용되는 액체 화학 물질용 Canisters는 1~200리터 용량, EP 처리된 316L 스테인리스 바디, 최대 300kPa 유압, 2.0×10-9 mbar·l/sec 미만의 누설률을 특징으로 하는 다양한 유형의 공급.반도체 산업의 ALD 및 CVD 관련 공정에 사용되는 액체 화학 물질용 Canisters는 1~200리터 용량, EP 처리된 316L 스테인리스 바디, 최대 300kPa 유압, 2.0×10-9 mbar·l/sec 미만의 누설률을 특징으로 하는 다양한 유형의 공급.
- 핵심 기술로는 원자층 증착(ALD) 기술, 플라즈마 공정 기술, 독자적인 ALD 장비 설계 기술 보유.핵심 기술로는 원자층 증착(ALD) 기술, 플라즈마 공정 기술, 독자적인 ALD 장비 설계 기술 보유.
- 해외 의존도가 높았던 ALD 장비의 국산화 성공과 20년 이상의 연구개발 노하우를 통한 독자적인 기술력 확보.해외 의존도가 높았던 ALD 장비의 국산화 성공과 20년 이상의 연구개발 노하우를 통한 독자적인 기술력 확보.
- 고객 맞춤형 장비 개발 역량으로, 플렉서블한 구조와 유연한 공정 조건 설정이 가능하며, 고객 요구에 따른 진공도 및 가스 처리 최적화 등 커스터마이징 기술력 보유.고객 맞춤형 장비 개발 역량으로, 플렉서블한 구조와 유연한 공정 조건 설정이 가능하며, 고객 요구에 따른 진공도 및 가스 처리 최적화 등 커스터마이징 기술력 보유.
- Thermal ALD, Plasma ALD, 대기압 ALD 등 다양한 방식의 공정 지원 능력으로 폭넓은 응용 분야 대응.Thermal ALD, Plasma ALD, 대기압 ALD 등 다양한 방식의 공정 지원 능력으로 폭넓은 응용 분야 대응.
- 별도의 고객 서비스팀 운영을 통한 신속한 애프터서비스 제공, 심각한 문제 발생 시 24시간 이내 현장 방문 해결 시스템 구축.별도의 고객 서비스팀 운영을 통한 신속한 애프터서비스 제공, 심각한 문제 발생 시 24시간 이내 현장 방문 해결 시스템 구축.
- 세계 최대 반도체 장비 기업인 어플라이드 머티리얼즈, ASM, 고쿠사이, 머크, 에어리퀴드 등 글로벌 유수 기업 연구소에 R&D용 ALD 장비 공급을 통한 R&D 시장에서의 독보적 입지.세계 최대 반도체 장비 기업인 어플라이드 머티리얼즈, ASM, 고쿠사이, 머크, 에어리퀴드 등 글로벌 유수 기업 연구소에 R&D용 ALD 장비 공급을 통한 R&D 시장에서의 독보적 입지.
- 주요 부품의 국산화를 통한 사후지원 역량 강화 및 안정적인 장비 공급망 확보.주요 부품의 국산화를 통한 사후지원 역량 강화 및 안정적인 장비 공급망 확보.
- 매년 매출액의 10%를 기술 개발에 투자하는 지속적인 R&D 투자로 기술 포트폴리오 확장 및 미래 성장 동력 확보.매년 매출액의 10%를 기술 개발에 투자하는 지속적인 R&D 투자로 기술 포트폴리오 확장 및 미래 성장 동력 확보.
- 플라즈마 응용 공정에서 내부 기생 플라즈마를 방지하는 특허기술을 통한 안정적인 시스템 구축 능력.플라즈마 응용 공정에서 내부 기생 플라즈마를 방지하는 특허기술을 통한 안정적인 시스템 구축 능력.
- 반도체 산업: 전공정, PIM 반도체, MRAM 등 차세대 메모리 소자의 MTJ Capping Layer, 절연막, 확산 방지막 증착, 커패시터, 트랜지스터 형성 공정, 초미세 공정 회로의 절연막 및 보호막 형성.반도체 산업: 전공정, PIM 반도체, MRAM 등 차세대 메모리 소자의 MTJ Capping Layer, 절연막, 확산 방지막 증착, 커패시터, 트랜지스터 형성 공정, 초미세 공정 회로의 절연막 및 보호막 형성.
- 디스플레이 산업: OLED 봉지 공정, 마이크로 OLED, 평판 디스플레이 박막 형성.디스플레이 산업: OLED 봉지 공정, 마이크로 OLED, 평판 디스플레이 박막 형성.
- 2차 전지 산업: 음극재 및 양극재 등 원료 소재의 ALD 코팅을 통한 배터리 안전성, 효율 향상 및 수명 연장.2차 전지 산업: 음극재 및 양극재 등 원료 소재의 ALD 코팅을 통한 배터리 안전성, 효율 향상 및 수명 연장.
- 태양광 산업: 패시베이션 공정.태양광 산업: 패시베이션 공정.
- 바이오 산업: 임플란트 표면 코팅.바이오 산업: 임플란트 표면 코팅.
- 에너지 산업: SOFC(고체산화물 연료전지), 촉매 분야.에너지 산업: SOFC(고체산화물 연료전지), 촉매 분야.
- 정밀 부품 및 첨단 산업 전반에 걸친 적용 분야.정밀 부품 및 첨단 산업 전반에 걸친 적용 분야.
- 한국 (국내 시장 50% 이상 점유율), 중국, 일본, 대만, 싱가포르, 인도한국 (국내 시장 50% 이상 점유율), 중국, 일본, 대만, 싱가포르, 인도
- 유럽 (프랑스, 독일 포함)유럽 (프랑스, 독일 포함)
- 미국미국
- ALD 장비 관련 다수의 핵심 특허 보유.ALD 장비 관련 다수의 핵심 특허 보유.
- 특히 플라즈마 응용 공정에서 내부 기생 플라즈마를 방지하는 특허 기술 보유.특히 플라즈마 응용 공정에서 내부 기생 플라즈마를 방지하는 특허 기술 보유.
- 유럽 CE 인증 획득으로 글로벌 시장에서 설비의 무결성 입증.유럽 CE 인증 획득으로 글로벌 시장에서 설비의 무결성 입증.
- 독자적인 핵심 기술력을 기반으로 관련 분야에서 차별화된 경쟁 우위 확보.독자적인 핵심 기술력을 기반으로 관련 분야에서 차별화된 경쟁 우위 확보.