반도체 생산 공정의 핵심 요소인 가스 및 진공 제어용 센서와 계측장치를 전문적으로 개발하는 기업. Mass Flow Controller (MFC), Vacuum Gauge, Throttle Valve, 그리고 이들을 제어하는 다양한 컨트롤러 제품군을 제공하는 진공 기술 전문 기업. 외국산 제품 대비 가격 경쟁력과 우수한 성능을 갖춘 제품 개발에 주력하는 기업.반도체생산공정의핵심요소인가스및진공제어용센서와계측장치를전문적으로개발하는기업.MassFlowController(MFC),VacuumGauge,ThrottleValve,그리고이들을제어하는다양한컨트롤러제품군을제공하는진공기술전문기업.외국산제품대비가격경쟁력과우수한성능을갖춘제품개발에주력하는기업.
대표 제품군/보유 기술대표제품군/보유기술
Mass Flow Controller (MFC) 및 컨트롤러: AFC500/AFC600 (10 SCCM ~ 50 SLM 범위, ±1% F.S. 정확도, 빠른 워밍업 시간), AFC770 HIGH MASS FLOW CONTROLLER (51 SLM ~ 500 SLM 범위, ±1% F.S. 정확도). MFC Box Panel & Gas Flow System, MFC Control Box, AMCB (2~6 채널 MFC 제어 박스 유닛) 등의 가스 유량 제어 시스템.MassFlowController(MFC)및컨트롤러:AFC500/AFC600(10SCCM~50SLM범위,±1%F.S.정확도,빠른워밍업시간),AFC770HIGHMASSFLOWCONTROLLER(51SLM~500SLM범위,±1%F.S.정확도).MFCBoxPanel&GasFlowSystem,MFCControlBox,AMCB(2~6채널MFC제어박스유닛)등의가스유량제어시스템.
Vacuum Gauge (진공 게이지) 및 컨트롤러: ION Gauge [4336K], Convection Gauge [CG202], Enhanced Convection Gauge [EG301]. GVC2200 Vacuum Gauge Controller (Hot Cathode Ionization Gauge, Convection Gauge, Capacitance Manometer 동시 연결, 10-9 Torr ~ 1000 Torr 측정 범위). Capacitance Manometer (1, 2, 10, 100, 1000 Full Scale).VacuumGauge(진공게이지)및컨트롤러:IONGauge[4336K],ConvectionGauge[CG202],EnhancedConvectionGauge[EG301].GVC2200VacuumGaugeController(HotCathodeIonizationGauge,ConvectionGauge,CapacitanceManometer동시연결,10-9Torr~1000Torr측정범위).CapacitanceManometer(1,2,10,100,1000FullScale).
Throttle Valve (스로틀 밸브) 및 컨트롤러: ATV1000-B, ATV1000, ATV3000 Smart Exhaust Pressure Controller. GPC3000 [Throttle Valve Controller] (Capacitance Manometer 전원 공급 및 압력 신호 수신, PID 또는 Self-Tuning 기능으로 압력 제어). APC200 [Throttle Valve Controller] (GPC3000의 업그레이드 버전으로 MFC 연결 옵션 제공).ThrottleValve(스로틀밸브)및컨트롤러:ATV1000-B,ATV1000,ATV3000SmartExhaustPressureController.GPC3000[ThrottleValveController](CapacitanceManometer전원공급및압력신호수신,PID또는Self-Tuning기능으로압력제어).APC200[ThrottleValveController](GPC3000의업그레이드버전으로MFC연결옵션제공).
통합 컨트롤러 및 전원 공급 장치: GVC2200 Vacuum Gauge Controller, CG2000 [Vacuum Gauge Controller]. AMC60 [P/S & Flow controller], GMC300D [P/S & Flow Controller] (단종, ATC050, ATC100으로 대체 가능). GMC220 [Power Supply & Readout Unit] (단종, ATC050, ATC100으로 대체 가능). GMC1200 [Flow & Pressure Controller] (MFC 전원 공급 및 유량 디스플레이, Capacitance Manometer 압력 디스플레이, Upstream Pressure Control 옵션).통합컨트롤러및전원공급장치:GVC2200VacuumGaugeController,CG2000[VacuumGaugeController].AMC60[P/S&Flowcontroller],GMC300D[P/S&FlowController](단종,ATC050,ATC100으로대체가능).GMC220[PowerSupply&ReadoutUnit](단종,ATC050,ATC100으로대체가능).GMC1200[Flow&PressureController](MFC전원공급및유량디스플레이,CapacitanceManometer압력디스플레이,UpstreamPressureControl옵션).
기타 시스템: Gas Line System, All Teflon(POCL3) 제품군.기타시스템:GasLineSystem,AllTeflon(POCL3)제품군.
경쟁 우위 포인트경쟁우위포인트
반도체 생산 공정의 핵심인 가스 및 진공 제어 분야에 특화된 기술 전문성.반도체생산공정의핵심인가스및진공제어분야에특화된기술전문성.
외국산 제품과 비교하여 경쟁력 있는 가격과 우수한 성능을 동시에 제공하는 제품 개발 역량.외국산제품과비교하여경쟁력있는가격과우수한성능을동시에제공하는제품개발역량.
MFC, 진공 게이지, 스로틀 밸브 및 이들을 통합 제어하는 컨트롤러 등 광범위한 진공 장비 컴포넌트 개발 능력.MFC,진공게이지,스로틀밸브및이들을통합제어하는컨트롤러등광범위한진공장비컴포넌트개발능력.
모듈형 설계와 고객 맞춤형 제어 박스 제작을 통한 높은 유연성 및 공간 활용성.모듈형설계와고객맞춤형제어박스제작을통한높은유연성및공간활용성.
GVC2200과 같은 진공 게이지 컨트롤러의 고진공부터 대기압 이상까지의 넓은 측정 범위와 다중 게이지 동시 연결 기능.GVC2200과같은진공게이지컨트롤러의고진공부터대기압이상까지의넓은측정범위와다중게이지동시연결기능.
AFC500/AFC600 및 AFC770 Mass Flow Controller의 정밀한 유량 제어, 빠른 워밍업 시간, 그리고 높은 정확도.AFC500/AFC600및AFC770MassFlowController의정밀한유량제어,빠른워밍업시간,그리고높은정확도.
초고속 마이크로 프로세서 채택 및 RS-232C 인터페이스를 통한 PC 제어 가능성.초고속마이크로프로세서채택및RS-232C인터페이스를통한PC제어가능성.
적용 산업적용산업
반도체 생산 공정반도체생산공정
진공 장비 산업진공장비산업
일반 산업용 가스 유량 및 압력 제어 분야일반산업용가스유량및압력제어분야
주요 시장주요시장
중국중국
인증/특허인증/특허
ISO 9001:2015 품질경영시스템 인증 획득.ISO9001:2015품질경영시스템인증획득.
다수의 제품에 대한 CE 인증 보유 (APC200, CG202, CG2000, AFC500, ATV1000, GPC3000, GMC1200, GVC2200 등).다수의제품에대한CE인증보유(APC200,CG202,CG2000,AFC500,ATV1000,GPC3000,GMC1200,GVC2200등).
진공 및 가스 제어 분야의 핵심 센서 및 계측장치 개발에 대한 독자적인 기술력.진공및가스제어분야의핵심센서및계측장치개발에대한독자적인기술력.
MFC, 진공 게이지, 스로틀 밸브 등 주요 진공 장비 부품 및 센서 개발 역량.MFC,진공게이지,스로틀밸브등주요진공장비부품및센서개발역량.