반도체 및 전자부품의 표면 몰딩 제거를 위한 자동화된 디캡 장비와 정밀 식각 장비를 개발, 생산하는 기업. 세계 최초의 자동화 로봇 디캡 장비인 MIS Auto Decaper를 포함하여 다양한 식각 및 공정 장비 솔루션 제공. 레이저 디캡, 습식 식각, 밀링 식각 등 고정밀 반도체 제조 공정 장비 기술력 보유. 반도체 제조 산업의 핵심 공정 효율화와 생산 비용 절감에 기여하는 전문 기업. 나노가공장비 및 디스플레이 분야에서도 혁신적인 제품 개발에 주력하는 기업.반도체및전자부품의표면몰딩제거를위한자동화된디캡장비와정밀식각장비를개발,생산하는기업.세계최초의자동화로봇디캡장비인MISAutoDecaper를포함하여다양한식각및공정장비솔루션제공.레이저디캡,습식식각,밀링식각등고정밀반도체제조공정장비기술력보유.반도체제조산업의핵심공정효율화와생산비용절감에기여하는전문기업.나노가공장비및디스플레이분야에서도혁신적인제품개발에주력하는기업.
대표 제품군/보유 기술대표제품군/보유기술
MIS Auto Decaper (MD-2006A): 패키지된 반도체 및 전자부품의 표면 몰딩(EMC, Epoxy Molding compounds)을 안전하고 효과적으로 제거하는 세계 최초의 자동화 로봇 장비. 밀링, 에칭, 가열, 아세톤 세척, 건조, 초음파 세척, Vision 검사 기능을 통합하며, 듀얼 히팅(Dual Heating) 방식과 레시피 파일을 통한 반복 재현성 제공.MISAutoDecaper(MD-2006A):패키지된반도체및전자부품의표면몰딩(EMC,EpoxyMoldingcompounds)을안전하고효과적으로제거하는세계최초의자동화로봇장비.밀링,에칭,가열,아세톤세척,건조,초음파세척,Vision검사기능을통합하며,듀얼히팅(DualHeating)방식과레시피파일을통한반복재현성제공.
Laser Decaper (ML-2000): 레이저를 이용한 반도체 IC 디캡 장비로, 모든 종류의 반도체 패키지(EMC) 제거 능력. Cu 와이어 손상 최소화 및 다이 표면 오픈 작업 지원, 비전 카메라를 통한 실시간 영상 제공 및 X-ray 이미지 중첩 디캡 영역 지정 기능.LaserDecaper(ML-2000):레이저를이용한반도체IC디캡장비로,모든종류의반도체패키지(EMC)제거능력.Cu와이어손상최소화및다이표면오픈작업지원,비전카메라를통한실시간영상제공및X-ray이미지중첩디캡영역지정기능.
MIS Deprocessor (MP-2007A): 초소형 반도체 디캡, 실리콘 칩 부분 식각, 여러 층으로 구성된 칩의 레이어 선택적 제거(Delaminating)가 가능한 세계 최초의 식각 장비. 마이크로 미터 단위의 정밀도를 가진 자동 습식 스테이션 장비.MISDeprocessor(MP-2007A):초소형반도체디캡,실리콘칩부분식각,여러층으로구성된칩의레이어선택적제거(Delaminating)가가능한세계최초의식각장비.마이크로미터단위의정밀도를가진자동습식스테이션장비.
Plasma Etching System (MPI-6000, 8000): 플라즈마를 활용한 식각 시스템으로, 1개의 공정 챔버와 1개의 로드락 챔버 구성. 로봇 암 전송 모듈 및 평면형 고밀도 플라즈마 소스 적용, RF 시스템 (Source 13.56MHz / 2.0 kW, Bias 13.56MHz / 600 W) 및 자동 압력 제어 기능.PlasmaEtchingSystem(MPI-6000,8000):플라즈마를활용한식각시스템으로,1개의공정챔버와1개의로드락챔버구성.로봇암전송모듈및평면형고밀도플라즈마소스적용,RF시스템(Source13.56MHz/2.0kW,Bias13.56MHz/600W)및자동압력제어기능.
Track System (MLT-6000): 2, 4, 6인치 웨이퍼를 위한 트랙 시스템으로, 2C2D / 2C3D LED용 트랙 시스템 및 웨이퍼 밸런스 및 정렬 기술 보유.TrackSystem(MLT-6000):2,4,6인치웨이퍼를위한트랙시스템으로,2C2D/2C3DLED용트랙시스템및웨이퍼밸런스및정렬기술보유.
MIS Wet Etch (DW-07): 반도체 및 전자부품의 습식 식각 공정을 위한 장비.MISWetEtch(DW-07):반도체및전자부품의습식식각공정을위한장비.
MIS Mill Etch (DM-07): 반도체 및 전자부품의 밀링 식각 공정을 위한 장비.MISMillEtch(DM-07):반도체및전자부품의밀링식각공정을위한장비.
슬러리 절감 노즐 장치: 반도체 및 디스플레이 공정에서 슬러리 사용량을 절감하여 효율성을 높이는 장치.슬러리절감노즐장치:반도체및디스플레이공정에서슬러리사용량을절감하여효율성을높이는장치.
Vacuum Valve: 반도체 제조 공정에서 진공 상태를 제어하는 데 사용되는 핵심 부품.VacuumValve:반도체제조공정에서진공상태를제어하는데사용되는핵심부품.
경쟁 우위 포인트경쟁우위포인트
세계 최초의 자동화 로봇 디캡 장비인 MIS Auto Decaper 개발 및 상용화 능력. 기존 수작업 방식의 위험성과 비효율성을 개선한 혁신적인 솔루션 제공.세계최초의자동화로봇디캡장비인MISAutoDecaper개발및상용화능력.기존수작업방식의위험성과비효율성을개선한혁신적인솔루션제공.
작업 안전성 확보, 작업 효율 향상, 생산 비용 절감에 기여하는 자동화된 로봇 장비 기술력. 인체에 유해한 황산, 질산 증기 노출을 최소화하고 사용량을 5분의 1 이하로 줄이는 설계.작업안전성확보,작업효율향상,생산비용절감에기여하는자동화된로봇장비기술력.인체에유해한황산,질산증기노출을최소화하고사용량을5분의1이하로줄이는설계.
레이저, 습식, 밀링 등 다양한 고정밀 식각 및 공정 장비 기술력 보유. 초소형 반도체 디캡, 실리콘 칩 부분 식각, 다층 칩의 레이어 선택적 제거 등 마이크로 미터 단위의 정밀 작업 수행 능력.레이저,습식,밀링등다양한고정밀식각및공정장비기술력보유.초소형반도체디캡,실리콘칩부분식각,다층칩의레이어선택적제거등마이크로미터단위의정밀작업수행능력.
반도체 및 디스플레이 공정 효율화를 위한 Track System 및 슬러리 절감 노즐 장치 개발 역량. 끊임없는 연구개발을 통해 나노가공장비 및 디스플레이 분야에서도 최고의 성능을 갖춘 혁신적인 제품 개발 노력.반도체및디스플레이공정효율화를위한TrackSystem및슬러리절감노즐장치개발역량.끊임없는연구개발을통해나노가공장비및디스플레이분야에서도최고의성능을갖춘혁신적인제품개발노력.
우수한 제조 능력과 다수의 특허 출원을 통한 독보적인 기술 투자 기반. 지속적인 연구개발을 통해 세계 최고의 기술력, 제품, 서비스, 품질을 추구하는 기업 문화.우수한제조능력과다수의특허출원을통한독보적인기술투자기반.지속적인연구개발을통해세계최고의기술력,제품,서비스,품질을추구하는기업문화.
PC 제어 기반의 자동화 로봇 시스템으로 신속하고 정확한 공정 수행 능력. 비전 카메라를 통한 실시간 모니터링 및 X-ray 이미지 중첩 디캡 영역 지정 등 사용자 편의성 및 정밀도 향상.PC제어기반의자동화로봇시스템으로신속하고정확한공정수행능력.비전카메라를통한실시간모니터링및X-ray이미지중첩디캡영역지정등사용자편의성및정밀도향상.
적용 산업적용산업
반도체 제조 산업: 반도체 패키징 후 표면 몰딩 제거 및 정밀 식각 공정.반도체제조산업:반도체패키징후표면몰딩제거및정밀식각공정.
전자 부품 제조 산업: 다양한 전자 부품의 디캡 및 식각 작업.전자부품제조산업:다양한전자부품의디캡및식각작업.
디스플레이 제조 산업 (LCD, LED): 디스플레이 패널 제조 공정의 효율화 및 관련 장비 공급.디스플레이제조산업(LCD,LED):디스플레이패널제조공정의효율화및관련장비공급.
모바일 기기 제조 산업: 모바일 기기에 사용되는 초소형 반도체 및 전자 부품 공정.모바일기기제조산업:모바일기기에사용되는초소형반도체및전자부품공정.
주요 시장주요시장
대한민국, 대만 (특허 취득)대한민국,대만(특허취득)
미국 (특허 출원 중)미국(특허출원중)
인증/특허인증/특허
MIS 오토디캐퍼 관련 국내 특허 취득.MIS오토디캐퍼관련국내특허취득.
대만 특허 취득.대만특허취득.
미국 및 일본 등에 특허 출원 중.미국및일본등에특허출원중.
한국과학기술연구원과 2005년 12월 공동 기술실시계약 체결.한국과학기술연구원과2005년12월공동기술실시계약체결.