기업 기본 정보
설립일자
2001-02-22
업종
기타 반도체소자 제조업
운영여부
운영중
업데이트
2025-12-04
기업 개요
- 한줄 요약
- 에스앤에스텍은 2001년 설립된 반도체 및 디스플레이 제조 공정의 핵심 원재료인 블랭크 마스크 전문 기업. 국내 최초로 블랭크 마스크 국산화에 성공하며 기술적 자립도를 높이는 데 결정적인 역할 수행. 특히 극자외선(EUV) 블랭크 마스크와 펠리클 국산화를 선도하며 차세대 반도체 공정 기술 혁신에 기여. 과감한 연구개발 투자와 특허 출원 및 등록을 통해 고부가가치 제품 개발에 주력하는 기업. 안정적인 기존 사업과 EUV 관련 신사업을 통한 폭발적인 성장 모멘텀 확보.에스앤에스텍은 2001년 설립된 반도체 및 디스플레이 제조 공정의 핵심 원재료인 블랭크 마스크 전문 기업. 국내 최초로 블랭크 마스크 국산화에 성공하며 기술적 자립도를 높이는 데 결정적인 역할 수행. 특히 극자외선(EUV) 블랭크 마스크와 펠리클 국산화를 선도하며 차세대 반도체 공정 기술 혁신에 기여. 과감한 연구개발 투자와 특허 출원 및 등록을 통해 고부가가치 제품 개발에 주력하는 기업. 안정적인 기존 사업과 EUV 관련 신사업을 통한 폭발적인 성장 모멘텀 확보.
- 대표 제품군/보유 기술
- 반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같은 고집적 회로의 수백에서 수십 나노 크기 패턴 구현에 사용되는 포토마스크의 원재료. 바이너리(Binary) 블랭크 마스크, KrF 및 ArF 위상반전(Phase Shift) 블랭크 마스크, 하드마스크용 블랭크 마스크 등 다양한 제품군 보유. 해상도 향상을 위한 기판, 금속막 및 레지스트막 특성 제어 기술이 핵심 역량. 극자외선(EUV)용 블랭크 마스크는 나노미터 수준의 얇은 다층막 위에 흡수체 기반 합금을 적층하여 제작되는 첨단 제품. BIN, 하드마스크(HM) BIN, HM PSM, Thin BIN 타입 등 총 4종류의 EUV 블랭크 마스크를 연구 개발 중.반도체용 블랭크 마스크는 DRAM과 같은 고집적 회로의 수백에서 수십 나노 크기 패턴 구현에 사용되는 포토마스크의 원재료. 바이너리(Binary) 블랭크 마스크, KrF 및 ArF 위상반전(Phase Shift) 블랭크 마스크, 하드마스크용 블랭크 마스크 등 다양한 제품군 보유. 해상도 향상을 위한 기판, 금속막 및 레지스트막 특성 제어 기술이 핵심 역량. 극자외선(EUV)용 블랭크 마스크는 나노미터 수준의 얇은 다층막 위에 흡수체 기반 합금을 적층하여 제작되는 첨단 제품. BIN, 하드마스크(HM) BIN, HM PSM, Thin BIN 타입 등 총 4종류의 EUV 블랭크 마스크를 연구 개발 중.
- 디스플레이용 블랭크 마스크(FPD용 블랭크 마스크)는 TFT-LCD, OLED 등 대형 디스플레이 액정 소자 제조를 위한 포토마스크의 원재료. 최종 제품 크기에 따라 다양한 크기를 가지며 대형 블랭크 마스크로도 불림. TM 및 PSM 블랭크 마스크, 10G 대면적 블랭크 마스크 등 차세대 디스플레이용 제품 개발에 집중. EUV 펠리클은 포토마스크를 보호하는 핵심 부품으로, 400W EUV 펠리클의 투과율은 91.2% 수준이며 웨이퍼 2만5000장 생산 가능. 800W 이상을 견디는 차세대 펠리클 개발을 통해 기술적 우위 확보 노력.디스플레이용 블랭크 마스크(FPD용 블랭크 마스크)는 TFT-LCD, OLED 등 대형 디스플레이 액정 소자 제조를 위한 포토마스크의 원재료. 최종 제품 크기에 따라 다양한 크기를 가지며 대형 블랭크 마스크로도 불림. TM 및 PSM 블랭크 마스크, 10G 대면적 블랭크 마스크 등 차세대 디스플레이용 제품 개발에 집중. EUV 펠리클은 포토마스크를 보호하는 핵심 부품으로, 400W EUV 펠리클의 투과율은 91.2% 수준이며 웨이퍼 2만5000장 생산 가능. 800W 이상을 견디는 차세대 펠리클 개발을 통해 기술적 우위 확보 노력.
- 경쟁 우위 포인트
- 국내 유일의 블랭크 마스크 전문 기업으로서 국내 반도체 및 디스플레이 산업 기반의 성공적인 시장 진입 및 확고한 시장 지위 확보.국내 유일의 블랭크 마스크 전문 기업으로서 국내 반도체 및 디스플레이 산업 기반의 성공적인 시장 진입 및 확고한 시장 지위 확보.
- 극자외선(EUV) 블랭크 마스크 및 펠리클의 국산화를 선도하며 일본 업체가 독점하던 시장에 대한 기술적 자립도를 크게 향상.극자외선(EUV) 블랭크 마스크 및 펠리클의 국산화를 선도하며 일본 업체가 독점하던 시장에 대한 기술적 자립도를 크게 향상.
- 과감한 R&D 투자와 선제적인 기술 개발 능력으로 하이엔드급 위상시프트 블랭크 마스크 특허 소송에서 일본 경쟁업체에 승소한 이력. 3나노 이하 공정에 필수적인 위상변이 마스크(PSM) 등 고부가가치 기술에 집중하는 전략.과감한 R&D 투자와 선제적인 기술 개발 능력으로 하이엔드급 위상시프트 블랭크 마스크 특허 소송에서 일본 경쟁업체에 승소한 이력. 3나노 이하 공정에 필수적인 위상변이 마스크(PSM) 등 고부가가치 기술에 집중하는 전략.
- 삼성전자 등 주요 고객사와의 전략적 협력 및 공동 개발, 검증을 통해 외산 제품 대비 우수한 품질 경쟁력 확보. 용인 EUV 전용 센터 준공으로 고객사와의 물리적 거리를 단축하여 공급 안정성과 협력 효율성을 극대화.삼성전자 등 주요 고객사와의 전략적 협력 및 공동 개발, 검증을 통해 외산 제품 대비 우수한 품질 경쟁력 확보. 용인 EUV 전용 센터 준공으로 고객사와의 물리적 거리를 단축하여 공급 안정성과 협력 효율성을 극대화.
- 기존 하이엔드 블랭크 마스크 시장의 견조한 수요를 통한 안정적인 캐시카우 확보. EUV 라인 가동 확대에 따른 핵심 소재 수혜 집중과 2026년 실적 레버리지 극대화를 통한 퀀텀 점프 모멘텀 보유.기존 하이엔드 블랭크 마스크 시장의 견조한 수요를 통한 안정적인 캐시카우 확보. EUV 라인 가동 확대에 따른 핵심 소재 수혜 집중과 2026년 실적 레버리지 극대화를 통한 퀀텀 점프 모멘텀 보유.
- 중국 시장 내 블랭크 마스크 시장에서 1~2위권의 강력한 시장 지위를 보유하며 글로벌 시장에서의 경쟁력 입증.중국 시장 내 블랭크 마스크 시장에서 1~2위권의 강력한 시장 지위를 보유하며 글로벌 시장에서의 경쟁력 입증.
- 적용 산업
- 반도체 산업: DRAM, 시스템 LSI 등 고집적 반도체 회로 제조 공정.반도체 산업: DRAM, 시스템 LSI 등 고집적 반도체 회로 제조 공정.
- 디스플레이 산업: TFT-LCD, OLED, 퀀텀닷 디스플레이 등 다양한 디스플레이 패널 제조 공정.디스플레이 산업: TFT-LCD, OLED, 퀀텀닷 디스플레이 등 다양한 디스플레이 패널 제조 공정.
- 주요 시장
- 대한민국, 대만, 중국, 홍콩, 싱가포르, 일본대한민국, 대만, 중국, 홍콩, 싱가포르, 일본
- 인증/특허
- 총 378개의 특허 출원 (2025년 기준).총 378개의 특허 출원 (2025년 기준).
- 2013년 기준 특허 출원 231건 중 국내 60건, 해외 23건 등록.2013년 기준 특허 출원 231건 중 국내 60건, 해외 23건 등록.
- 일본 호야와의 위상시프트 블랭크 마스크 특허 무효 소송에서 최종 승소 (2009년).일본 호야와의 위상시프트 블랭크 마스크 특허 무효 소송에서 최종 승소 (2009년).
- 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 제조방법에 관한 특허권 취득 (2012년).하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 제조방법에 관한 특허권 취득 (2012년).
- 삼성전자와 EUV 펠리클 특허 공동 출원 (2025년).삼성전자와 EUV 펠리클 특허 공동 출원 (2025년).
- ISO 9001 인증 (2001년), 기술 혁신형 중소기업(INNO-BIZ) 인증 (2004년), 부품소재 전문기업 인증 (2004년).ISO 9001 인증 (2001년), 기술 혁신형 중소기업(INNO-BIZ) 인증 (2004년), 부품소재 전문기업 인증 (2004년).
- 신제품 인증(NEP 인증) (2005년), 세계일류상품 선정 (2005년 차세대, 2009년 현재일류).신제품 인증(NEP 인증) (2005년), 세계일류상품 선정 (2005년 차세대, 2009년 현재일류).
- 중소기업 기술혁신 대전 대통령상 수상 (2005년), 대한민국기술대상 및 10대 신기술 선정 (2008년).중소기업 기술혁신 대전 대통령상 수상 (2005년), 대한민국기술대상 및 10대 신기술 선정 (2008년).
- 지식경제부 장관상 수상 (2008년 부품소재상, 2009년 지역전략산업진흥사업), 한국거래소 히든챔피언 2년 연속 선정 (2009, 2010년).지식경제부 장관상 수상 (2008년 부품소재상, 2009년 지역전략산업진흥사업), 한국거래소 히든챔피언 2년 연속 선정 (2009, 2010년).
- 2천만불 수출의 탑 수상 (2010년), 대구시 및 중소기업중앙회 대구경북지역본부 선정 중소기업 대상 수상 (2019년).2천만불 수출의 탑 수상 (2010년), 대구시 및 중소기업중앙회 대구경북지역본부 선정 중소기업 대상 수상 (2019년).
- 2022 무역안보의 날 자율준수무역거래자 우수기업 수상.2022 무역안보의 날 자율준수무역거래자 우수기업 수상.
기업 소개
기업 위치
대구광역시 달서구 호산동로 42