기업 기본 정보
설립일자
2020-07-01
업종
그 외 기타 분류 안된 화학제품 제조업
운영여부
운영중
업데이트
2026-01-08
기업 개요
- 한줄 요약
- 솔브레인(주)는 1986년 테크노무역상사로 시작하여 반도체, 디스플레이, 이차전지 등 첨단 IT 산업의 핵심 소재를 개발 및 생산하는 국내 대표적인 IT 소재 기업.솔브레인(주)는 1986년 테크노무역상사로 시작하여 반도체, 디스플레이, 이차전지 등 첨단 IT 산업의 핵심 소재를 개발 및 생산하는 국내 대표적인 IT 소재 기업.
- 대표 제품군/보유 기술
- 반도체 재료 분야의 CVD/ALD 프리커서, 식각액 및 세정액, CMP 슬러리 등 다양한 고순도 화학 소재 공급 기술반도체 재료 분야의 CVD/ALD 프리커서, 식각액 및 세정액, CMP 슬러리 등 다양한 고순도 화학 소재 공급 기술
- CVD/ALD 프리커서로는 TEOS, TEB, TEPO, TMOP, POCL3, TiCL4, HfO2/ZrO2 프리커서, High-k 프리커서(ZAC, ZEBRA, Z03, HAC, H03), 유전체 프리커서(HCDS, SBBP01), 금속 프리커서(TiN, TBTDET, Mo 프리커서), 신규 메모리 프리커서(Ge07~12, Te01, Sb01, SBIP01~04, SBGP01~03) 등의 제품군 보유CVD/ALD 프리커서로는 TEOS, TEB, TEPO, TMOP, POCL3, TiCL4, HfO2/ZrO2 프리커서, High-k 프리커서(ZAC, ZEBRA, Z03, HAC, H03), 유전체 프리커서(HCDS, SBBP01), 금속 프리커서(TiN, TBTDET, Mo 프리커서), 신규 메모리 프리커서(Ge07~12, Te01, Sb01, SBIP01~04, SBGP01~03) 등의 제품군 보유
- 식각액 및 세정액은 고순도 불산(HF), BOE(Buffered Oxide Etchant), 인산계 식각액(고선택비 인산), 고선택비 질화막 식각제(HSN) 등 반도체 핵심 공정용 솔루션 제공식각액 및 세정액은 고순도 불산(HF), BOE(Buffered Oxide Etchant), 인산계 식각액(고선택비 인산), 고선택비 질화막 식각제(HSN) 등 반도체 핵심 공정용 솔루션 제공
- CMP 슬러리 제품으로는 세리아 슬러리, 실리카 슬러리, 고평탄화 슬러리(ILD/IMD, CST-S22), STI(DRAM & Flash), 습식 나노 세리아(DRAM&NAND) 등 다양한 연마액 개발 및 공급CMP 슬러리 제품으로는 세리아 슬러리, 실리카 슬러리, 고평탄화 슬러리(ILD/IMD, CST-S22), STI(DRAM & Flash), 습식 나노 세리아(DRAM&NAND) 등 다양한 연마액 개발 및 공급
- 디스플레이 재료 분야의 에천트, 유기 재료, 씬 글래스(OLED) 등의 핵심 소재 기술력 보유 (단, 씬 글래스 사업은 2024년 적자 사업으로 철수)디스플레이 재료 분야의 에천트, 유기 재료, 씬 글래스(OLED) 등의 핵심 소재 기술력 보유 (단, 씬 글래스 사업은 2024년 적자 사업으로 철수)
- 이차전지 재료 분야의 전해액 및 첨가제, 리드탭 등 필수 소재 개발 및 공급 역량이차전지 재료 분야의 전해액 및 첨가제, 리드탭 등 필수 소재 개발 및 공급 역량
- 반도체 미세공정 및 3D 구조 전환에 대응하는 신소재 개발과 차세대 디스플레이 및 이차전지 시장을 위한 신규 제품 개발에 집중하는 연구개발 역량반도체 미세공정 및 3D 구조 전환에 대응하는 신소재 개발과 차세대 디스플레이 및 이차전지 시장을 위한 신규 제품 개발에 집중하는 연구개발 역량
- 경쟁 우위 포인트
- 선진 기술의 국산화를 넘어 세계화를 지향하는 기술 혁신 선도 기업선진 기술의 국산화를 넘어 세계화를 지향하는 기술 혁신 선도 기업
- 35년간 축적된 독자적인 기술력과 안정적인 생산 능력을 바탕으로 한 글로벌 일류 기업으로의 지속적인 혁신 역량35년간 축적된 독자적인 기술력과 안정적인 생산 능력을 바탕으로 한 글로벌 일류 기업으로의 지속적인 혁신 역량
- 세계 최고의 반도체 업체에 초고순도 화학 소재를 안정적으로 공급하며, 특히 불산계 및 인산계 식각액 시장에서 70~100%에 이르는 압도적인 국내 시장 점유율 확보세계 최고의 반도체 업체에 초고순도 화학 소재를 안정적으로 공급하며, 특히 불산계 및 인산계 식각액 시장에서 70~100%에 이르는 압도적인 국내 시장 점유율 확보
- 삼성전자, SK하이닉스, 삼성디스플레이, LG디스플레이 등 국내외 주요 첨단산업 고객사와의 깊은 신뢰 관계 및 신제품 공동 개발을 통한 차세대 시장 선점 능력삼성전자, SK하이닉스, 삼성디스플레이, LG디스플레이 등 국내외 주요 첨단산업 고객사와의 깊은 신뢰 관계 및 신제품 공동 개발을 통한 차세대 시장 선점 능력
- 한국과 중국에 생산 기반을 갖추고 글로벌 경영을 확대하며, 2023년 디엔에프 인수를 통해 반도체 소재 포트폴리오 강화 및 전구체 분야 기술력 및 생산 능력 향상한국과 중국에 생산 기반을 갖추고 글로벌 경영을 확대하며, 2023년 디엔에프 인수를 통해 반도체 소재 포트폴리오 강화 및 전구체 분야 기술력 및 생산 능력 향상
- 2020 대한민국 기술대상 대통령상 수상 (고선택비 질화막 식각제 HSN 개발) 및 2020년 발명의 날 대통령 표창 (불화수소 국산화 공로) 등 다수의 수상 이력으로 입증된 기술 경쟁력2020 대한민국 기술대상 대통령상 수상 (고선택비 질화막 식각제 HSN 개발) 및 2020년 발명의 날 대통령 표창 (불화수소 국산화 공로) 등 다수의 수상 이력으로 입증된 기술 경쟁력
- 적용 산업
- 반도체 산업 (메모리 및 비메모리 반도체 제조 공정)반도체 산업 (메모리 및 비메모리 반도체 제조 공정)
- 디스플레이 산업 (LCD, OLED 패널 제조 공정)디스플레이 산업 (LCD, OLED 패널 제조 공정)
- 이차전지 산업 (리튬 이온 배터리 제조)이차전지 산업 (리튬 이온 배터리 제조)
- 전자 재료 산업 (기타 첨단 IT 전자 관련 화학 재료)전자 재료 산업 (기타 첨단 IT 전자 관련 화학 재료)
- 주요 시장
- 대한민국, 중국대한민국, 중국
- 미국 (공장 진출 추진 중)미국 (공장 진출 추진 중)
- 인증/특허
- 2020 대한민국 기술대상 대통령상 수상 (고선택비 질화막 식각제 HSN 세계 최초 개발)2020 대한민국 기술대상 대통령상 수상 (고선택비 질화막 식각제 HSN 세계 최초 개발)
- 2020년 제55회 발명의 날 발명유공 단체부문 대통령 표창 수상 (반도체용 고순도 불화수소 국산화 성공 공로)2020년 제55회 발명의 날 발명유공 단체부문 대통령 표창 수상 (반도체용 고순도 불화수소 국산화 성공 공로)
- ISO 37001 (부패방지경영시스템) 인증 획득 (2021년)ISO 37001 (부패방지경영시스템) 인증 획득 (2021년)
- KS A ISO 37301:2021 / ISO 37301:2021 (규범준수경영시스템) 인증 (반도체 및 디스플레이 제조용 화학물, 슬러리, 전구체, 리튬 이온 배터리용 전해질 및 리드탭 설계 및 제조, 씬글래스 제조, 리튬 이온 배터리 구리 음극 니켈 도금 처리)KS A ISO 37301:2021 / ISO 37301:2021 (규범준수경영시스템) 인증 (반도체 및 디스플레이 제조용 화학물, 슬러리, 전구체, 리튬 이온 배터리용 전해질 및 리드탭 설계 및 제조, 씬글래스 제조, 리튬 이온 배터리 구리 음극 니켈 도금 처리)
- ISO 9001 품질경영시스템 인증ISO 9001 품질경영시스템 인증
- IATF 16949 자동차 산업 품질경영시스템 인증IATF 16949 자동차 산업 품질경영시스템 인증
- 2013년 한국수출입은행 '히든 챔피언' 선정 당시 평균 129건의 특허 보유2013년 한국수출입은행 '히든 챔피언' 선정 당시 평균 129건의 특허 보유
- 반도체 공정 미세화에 최적화된 다양한 제품 개발 및 지원 능력반도체 공정 미세화에 최적화된 다양한 제품 개발 및 지원 능력
- 초고순도 불산(12 Nine) 대량 생산 기술 확보초고순도 불산(12 Nine) 대량 생산 기술 확보
- CVD/ALD 프리커서 국산화 (TEOS 국내 최초)CVD/ALD 프리커서 국산화 (TEOS 국내 최초)
기업 소개
기업 위치
경기도 성남시 수정구 금토로 52, F동