개발동기
TSP 노광기의 효시로, 1999년 TSP가 처음 도입될 당시, 작은 사이즈의 TSP를 개별로 라미네이터, 노광 할 수 있는 형태로 라인업을 구성하였습니다. Proximity 노광으로 10㎛의 patterning이 가능하고 중복 노광 정밀도 2㎛입니다. 노광 Head의 숫자와 배치에 따라 다르지만 최고 Tact time은 1장에 1.3초이며, 다양한 사이즈의 TSP를 노광할 수 있도록 설계되어 있습니다. 

주요 사용처 : TSP 제조공정 

제품특징
① 본 장비의 Touch Window Process의 G2 공정의 Photo Lithograph 장비 입니다.
② BM, ITO, Metal 공정의 Total Multi Align Accuracy Process를 수용 가능케 설계 되어 있습니다.
③ Fine Pattern 10㎛을 구현하면서, 고속 1.3sec/Panel의 Throughput을 실현합니다.
④ Proximity Exposure Machine입니다. 

제품의 주요사양