삼양엔씨켐은 반도체용 정밀화학소재 전문 생산 기업으로, 특히 반도체 제조의 핵심 공정인 포토 공정에 사용되는 포토레지스트(PR)용 소재를 개발 및 생산하는 기업이다. 2015년 국내 최초로 반도체 PR용 KrF 폴리머를 국산화하며 국내 반도체 소재 자립화에 기여한 이력의 기업이다. 삼양그룹의 핵심 계열사로서 글로벌 스페셜티 사업을 이끄는 기업이다.삼양엔씨켐은반도체용정밀화학소재전문생산기업으로,특히반도체제조의핵심공정인포토공정에사용되는포토레지스트(PR)용소재를개발및생산하는기업이다.2015년국내최초로반도체PR용KrF폴리머를국산화하며국내반도체소재자립화에기여한이력의기업이다.삼양그룹의핵심계열사로서글로벌스페셜티사업을이끄는기업이다.
대표 제품군/보유 기술대표제품군/보유기술
반도체 포토레지스트(PR)용 폴리머: KrF 폴리머, ArF 폴리머, EUV 폴리머 등 다양한 광원별 포토레지스트용 핵심 원재료 개발 및 생산 역량 보유. 2023년 기준 PR용 폴리머 240톤의 생산 능력 확보.반도체포토레지스트(PR)용폴리머:KrF폴리머,ArF폴리머,EUV폴리머등다양한광원별포토레지스트용핵심원재료개발및생산역량보유.2023년기준PR용폴리머240톤의생산능력확보.
광산발생제(PAG): 포토레지스트의 주요 구성 요소 중 하나인 PAG 개발 및 생산. 2023년 기준 PAG 20톤의 생산 능력 보유.광산발생제(PAG):포토레지스트의주요구성요소중하나인PAG개발및생산.2023년기준PAG20톤의생산능력보유.
Wet Chemical: 반도체 세정 공정에 사용되는 세정제, Developer, Thinner, Stripper, Etchant 등 Wet Chemical 및 중간체 생산. 2023년 기준 Wet Chemical 2,400톤의 생산 능력 확보.WetChemical:반도체세정공정에사용되는세정제,Developer,Thinner,Stripper,Etchant등WetChemical및중간체생산.2023년기준WetChemical2,400톤의생산능력확보.
HBM(High Bandwidth Memory)용 BUMP 폴리머: 고대역폭 메모리(HBM) 생산을 위한 후공정 패키징용 BUMP 폴리머 사업을 본격화하며 올해 양산 예정.HBM(HighBandwidthMemory)용BUMP폴리머:고대역폭메모리(HBM)생산을위한후공정패키징용BUMP폴리머사업을본격화하며올해양산예정.
유기 합성 기술 및 고분자 합성 기술: 99.9% 이상의 고순도 PR용 폴리머와 PAG를 개발·생산하는 핵심 기술력. PPB(Parts Per Billion) 단위까지 측정이 가능한 장비를 통한 품질 관리 시스템.유기합성기술및고분자합성기술:99.9%이상의고순도PR용폴리머와PAG를개발·생산하는핵심기술력.PPB(PartsPerBillion)단위까지측정이가능한장비를통한품질관리시스템.
경쟁 우위 포인트경쟁우위포인트
국내 최대 규모의 생산 능력: PR용 폴리머 240톤, PAG 20톤, Wet Chemical 2,400톤에 달하는 국내 최대 규모의 생산 역량을 보유하여 고객사의 다양한 요구 충족 및 신속한 제품 개발과 양산 전환 능력.국내최대규모의생산능력:PR용폴리머240톤,PAG20톤,WetChemical2,400톤에달하는국내최대규모의생산역량을보유하여고객사의다양한요구충족및신속한제품개발과양산전환능력.
선도적인 국산화 성공 경험: 2015년 국내 최초로 반도체 PR용 KrF 폴리머 국산화 성공을 통해 국내 반도체 소재 자립화에 기여한 기술 선도 기업.선도적인국산화성공경험:2015년국내최초로반도체PR용KrF폴리머국산화성공을통해국내반도체소재자립화에기여한기술선도기업.
고부가가치 제품 포트폴리오 확장: KrF, ArF, EUV PR용 폴리머 및 PAG, HBM용 BUMP 폴리머, 유리기판용 PR 소재 등 차세대 반도체 핵심 소재 개발 및 양산을 통한 고부가가치 포트폴리오 전환 가속화.고부가가치제품포트폴리오확장:KrF,ArF,EUVPR용폴리머및PAG,HBM용BUMP폴리머,유리기판용PR소재등차세대반도체핵심소재개발및양산을통한고부가가치포트폴리오전환가속화.
글로벌 시장 진출 및 고객사 다변화: 2018년부터 일본 및 미국 내 유수의 글로벌 기업에 PR용 소재를 수출하며 글로벌 시장에 진출, 국내외 주요 고객사 확보 및 수출 비중 확대.글로벌시장진출및고객사다변화:2018년부터일본및미국내유수의글로벌기업에PR용소재를수출하며글로벌시장에진출,국내외주요고객사확보및수출비중확대.
높은 기술 진입 장벽 대응 역량: 반도체 공정의 고도화에 따라 기술 진입 장벽이 높은 첨단 공정 대응 역량을 기반으로 차세대 성장 분야로 사업 영역을 확장하는 능력.높은기술진입장벽대응역량:반도체공정의고도화에따라기술진입장벽이높은첨단공정대응역량을기반으로차세대성장분야로사업영역을확장하는능력.
적용 산업적용산업
반도체 산업: 반도체 제조 공정 중 노광 공정 및 세정 공정에 사용되는 포토레지스트(PR)용 소재 및 Wet Chemical 공급.반도체산업:반도체제조공정중노광공정및세정공정에사용되는포토레지스트(PR)용소재및WetChemical공급.
고성능 메모리 반도체 산업: AI 산업 발전에 따른 고성능 메모리 반도체 수요 증가에 대응하는 DRAM용 ArF PAG 및 200단 이상 차세대 NAND용 소재 공급.고성능메모리반도체산업:AI산업발전에따른고성능메모리반도체수요증가에대응하는DRAM용ArFPAG및200단이상차세대NAND용소재공급.
첨단 패키징 산업: HBM(High Bandwidth Memory) 및 유리기판용 PR 소재 개발을 통한 차세대 고성능 반도체 패키징 분야 적용.첨단패키징산업:HBM(HighBandwidthMemory)및유리기판용PR소재개발을통한차세대고성능반도체패키징분야적용.
주요 시장주요시장
일본, 대만일본,대만
미국미국
인증/특허인증/특허
기업부설연구소 인증 (2009년)기업부설연구소인증(2009년)
이노비즈 기업 인증 (2011년)이노비즈기업인증(2011년)
부품소재전문기업 인증 (2020년)부품소재전문기업인증(2020년)
뿌리산업 전문기업 인증 (2020년)뿌리산업전문기업인증(2020년)
소부장 으뜸기업 2기 선정 (2022년)소부장으뜸기업2기선정(2022년)
합성, 중합, 정제 기술을 포함한 핵심 기술을 통해 99.9% 이상의 고순도 PR용 폴리머와 PAG를 개발·생산하는 기술력.합성,중합,정제기술을포함한핵심기술을통해99.9%이상의고순도PR용폴리머와PAG를개발·생산하는기술력.
PPB(Parts Per Billion) 단위까지 측정이 가능한 장비를 통한 엄격한 품질 관리 기술.PPB(PartsPerBillion)단위까지측정이가능한장비를통한엄격한품질관리기술.