광학 기술 및 플라즈마 진단 기술을 활용한 센서 제품군을 개발하는 기술 중심의 벤처 기업으로, 국내외 반도체 및 디스플레이 양산 제조 공정의 핵심 진단 센서 공급 기업.광학기술및플라즈마진단기술을활용한센서제품군을개발하는기술중심의벤처기업으로,국내외반도체및디스플레이양산제조공정의핵심진단센서공급기업.
대표 제품군/보유 기술대표제품군/보유기술
SPOES (AEGIS Series): 반도체 및 디스플레이 제조 공정 챔버의 실시간 누출 감지, 건식 세정 종점 검출, 비플라즈마 식각 및 TSV 식각 공정의 종점 검출 기능을 제공하는 자가 플라즈마 OES 센서 제품군. 오염 방지 모듈 특허 기술 적용으로 높은 오염 내구성과 가격 대비 높은 활용도를 자랑하는 솔루션.SPOES(AEGISSeries):반도체및디스플레이제조공정챔버의실시간누출감지,건식세정종점검출,비플라즈마식각및TSV식각공정의종점검출기능을제공하는자가플라즈마OES센서제품군.오염방지모듈특허기술적용으로높은오염내구성과가격대비높은활용도를자랑하는솔루션.
CCD Type EPD (OPTI Series): 반도체 및 FPD 제조 공정 챔버 내부 플라즈마를 분광 분석법으로 분석하여 식각, 플라즈마 처리, PR/ACL 스트립, PECVD 공정의 종점 자동 검출 및 공정 변화 모니터링 센서. 안정적인 시스템 구조와 다양한 데이터 처리 알고리즘, 광학 해상도, S/N비, 분산 처리 구조에 따른 폭넓은 제품 라인업 보유. 습식 공정용 OPTI-W 제품도 제공.CCDTypeEPD(OPTISeries):반도체및FPD제조공정챔버내부플라즈마를분광분석법으로분석하여식각,플라즈마처리,PR/ACL스트립,PECVD공정의종점자동검출및공정변화모니터링센서.안정적인시스템구조와다양한데이터처리알고리즘,광학해상도,S/N비,분산처리구조에따른폭넓은제품라인업보유.습식공정용OPTI-W제품도제공.
Filter Type EPD (NEFL Series): 반도체 ash/strip 챔버 내 플라즈마를 수광하여 에천트 또는 부산물의 변화를 감지함으로써 식각 공정의 종점을 검출하는 센서. PR/ACL 스트립 공정에 주로 활용되는 제품군.FilterTypeEPD(NEFLSeries):반도체ash/strip챔버내플라즈마를수광하여에천트또는부산물의변화를감지함으로써식각공정의종점을검출하는센서.PR/ACL스트립공정에주로활용되는제품군.
챔버 플라즈마 모니터: 아크 감지, 펄스 플라즈마 특성 분석, 강도 분포 측정을 위한 센서 솔루션.챔버플라즈마모니터:아크감지,펄스플라즈마특성분석,강도분포측정을위한센서솔루션.
경쟁 우위 포인트경쟁우위포인트
광학 및 플라즈마 진단 기술 기반의 독자적인 센서 제품 개발 역량 보유.광학및플라즈마진단기술기반의독자적인센서제품개발역량보유.
반도체, 광원, 광계측 및 광통신 장비의 국산화를 이룬 10년 이상의 자체 기술 개발 노하우.반도체,광원,광계측및광통신장비의국산화를이룬10년이상의자체기술개발노하우.
SPOES 제품의 특허받은 오염 방지 모듈 및 In-situ 누출 감지 기술로 해외 수입 제품 대비 높은 오염 내구성과 비용 효율성 제공.SPOES제품의특허받은오염방지모듈및In-situ누출감지기술로해외수입제품대비높은오염내구성과비용효율성제공.
우수한 품질, 높은 가격 경쟁력, 신속한 서비스 제공 능력으로 고객 신뢰 구축.우수한품질,높은가격경쟁력,신속한서비스제공능력으로고객신뢰구축.
고객의 고유한 환경에 맞춘 맞춤형 서비스, 풍부한 경험, 고급 기술 지원 및 데이터 분석 능력.고객의고유한환경에맞춘맞춤형서비스,풍부한경험,고급기술지원및데이터분석능력.
정보통신부 지정 우수신기술(IT)업체 선정, 중소기업청 기술경쟁력 우수업체 선정 등 정부로부터 인정받은 기술 경쟁력과 성장 잠재력.정보통신부지정우수신기술(IT)업체선정,중소기업청기술경쟁력우수업체선정등정부로부터인정받은기술경쟁력과성장잠재력.
적용 산업적용산업
반도체 제조 공정: CVD, ALD, Etch, Diffusion, Anneal, PECVD 공정의 감시 및 제어.반도체제조공정:CVD,ALD,Etch,Diffusion,Anneal,PECVD공정의감시및제어.
디스플레이 제조 공정: BP(Array), TSP, EN, All TC/HC 공정의 진단 및 제어.디스플레이제조공정:BP(Array),TSP,EN,AllTC/HC공정의진단및제어.
플라즈마 처리 공정: 식각, 플라즈마 처리, PR/ACL 스트립 공정의 종점 검출 및 모니터링.플라즈마처리공정:식각,플라즈마처리,PR/ACL스트립공정의종점검출및모니터링.