기업 기본 정보
Japan, 〒222-0033 Kanagawa, Yokohama, Kohoku Ward, Shinyokohama, 2-chōme−１０−１ ビル
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운영여부
운영중
업데이트
2025-11-17
기업 개요
- 한줄 요약
- Lasertec은 응용 광학 기술을 기반으로 반도체, FPD 및 기타 산업을 위한 첨단 검사 및 측정 시스템을 개발, 제조 및 판매하는 기업. 특히 EUV 리소그래피 관련 검사 시스템 분야에서 세계 시장을 선도하는 독점적 위치를 확보.Lasertec은 응용 광학 기술을 기반으로 반도체, FPD 및 기타 산업을 위한 첨단 검사 및 측정 시스템을 개발, 제조 및 판매하는 기업. 특히 EUV 리소그래피 관련 검사 시스템 분야에서 세계 시장을 선도하는 독점적 위치를 확보.
- 대표 제품군/보유 기술
- 반도체 관련 시스템으로 마스크 및 웨이퍼 검사 장비 포트폴리오 보유. EUV 마스크 관련 시스템에는 액티닉 EUV 패턴 마스크 검사 시스템(ACTIS A300 시리즈, A150)과 EUV 마스크 블랭크 검사 및 리뷰 시스템(ABICS 시리즈 E320, E120)이 포함. 또한, DUV 마스크 검사 시스템(MATRICS X810EX 시리즈)과 다양한 웨이퍼 검사 및 측정 시스템(SiC 웨이퍼 검사 및 리뷰 시스템 SICA108, GaN 웨이퍼 검사 및 리뷰 시스템 GALOIS211)을 제공.반도체 관련 시스템으로 마스크 및 웨이퍼 검사 장비 포트폴리오 보유. EUV 마스크 관련 시스템에는 액티닉 EUV 패턴 마스크 검사 시스템(ACTIS A300 시리즈, A150)과 EUV 마스크 블랭크 검사 및 리뷰 시스템(ABICS 시리즈 E320, E120)이 포함. 또한, DUV 마스크 검사 시스템(MATRICS X810EX 시리즈)과 다양한 웨이퍼 검사 및 측정 시스템(SiC 웨이퍼 검사 및 리뷰 시스템 SICA108, GaN 웨이퍼 검사 및 리뷰 시스템 GALOIS211)을 제공.
- 평판 디스플레이(FPD) 관련 시스템으로는 FPD 포토마스크 검사 시스템을 개발 및 공급.평판 디스플레이(FPD) 관련 시스템으로는 FPD 포토마스크 검사 시스템을 개발 및 공급.
- 레이저 현미경 제품군에는 고성능 다기능 하이브리드 레이저 현미경과 리튬 이온 배터리 내부 전기화학 반응을 시각화하는 전기화학 반응 가시화 공초점 시스템(ECCS B520) 등이 포함.레이저 현미경 제품군에는 고성능 다기능 하이브리드 레이저 현미경과 리튬 이온 배터리 내부 전기화학 반응을 시각화하는 전기화학 반응 가시화 공초점 시스템(ECCS B520) 등이 포함.
- 핵심 기술은 응용 광학, 공초점 광학, DUV/EUV 광학, 간섭계 기술이며, 레이저 스캐닝 시스템과 AI/ML 기반 결함 분석 기술을 활용.핵심 기술은 응용 광학, 공초점 광학, DUV/EUV 광학, 간섭계 기술이며, 레이저 스캐닝 시스템과 AI/ML 기반 결함 분석 기술을 활용.
- 경쟁 우위 포인트
- EUV 마스크 검사 시장에서 독점적 지위 확보. 특히 액티닉 EUV 패턴 마스크 결함 검사 시스템, EUV 마스크 블랭크 결함 검사/리뷰 시스템, EUV 마스크 후면 검사/클리닝 시스템 분야에서 90% 이상의 글로벌 시장 점유율 기록.EUV 마스크 검사 시장에서 독점적 지위 확보. 특히 액티닉 EUV 패턴 마스크 결함 검사 시스템, EUV 마스크 블랭크 결함 검사/리뷰 시스템, EUV 마스크 후면 검사/클리닝 시스템 분야에서 90% 이상의 글로벌 시장 점유율 기록.
- "매년 완전히 새로운 제품을 출시"하는 정신으로 최첨단 제품 및 기술 개발에 전념, 다수의 "세계 최초" 제품 출시 이력. 2017년 세계 최초로 13.5nm EUV 광원을 사용한 EUV 마스크 블랭크 검사 및 리뷰 시스템을 출시."매년 완전히 새로운 제품을 출시"하는 정신으로 최첨단 제품 및 기술 개발에 전념, 다수의 "세계 최초" 제품 출시 이력. 2017년 세계 최초로 13.5nm EUV 광원을 사용한 EUV 마스크 블랭크 검사 및 리뷰 시스템을 출시.
- 연간 매출의 5~10%를 R&D에 투자하며 지속적인 혁신 추구. 2022년 30개 이상의 신규 특허를 출원하며 첨단 리소그래피 기술에 집중.연간 매출의 5~10%를 R&D에 투자하며 지속적인 혁신 추구. 2022년 30개 이상의 신규 특허를 출원하며 첨단 리소그래피 기술에 집중.
- 주요 반도체 제조업체(파운드리, IDM, 메모리 제조사)와의 긴밀한 협력을 통해 고객 로드맵에 맞춰 제품을 공동 개발하는 전략. 이를 통해 차세대 칩 제조에 필수적인 솔루션을 제공하며 높은 고객 충성도 유지.주요 반도체 제조업체(파운드리, IDM, 메모리 제조사)와의 긴밀한 협력을 통해 고객 로드맵에 맞춰 제품을 공동 개발하는 전략. 이를 통해 차세대 칩 제조에 필수적인 솔루션을 제공하며 높은 고객 충성도 유지.
- Fab-lite 전략을 통해 생산은 외부 협력업체에 위탁하고, 내부 자원은 R&D에 집중하여 기술 개발 역량을 극대화. 엔지니어들이 제품 기획부터 연구, 프로토타이핑, 설계, 제조, 설치, 유지보수 등 전 과정에 참여하여 다각적인 문제 해결 능력 보유.Fab-lite 전략을 통해 생산은 외부 협력업체에 위탁하고, 내부 자원은 R&D에 집중하여 기술 개발 역량을 극대화. 엔지니어들이 제품 기획부터 연구, 프로토타이핑, 설계, 제조, 설치, 유지보수 등 전 과정에 참여하여 다각적인 문제 해결 능력 보유.
- 글로벌 반도체 산업의 미세화 및 복잡성 증가 추세에 맞춰 EUV 리소그래피의 핵심 병목 현상인 마스크 결함 검사를 해결하는 데 필수적인 공급자 역할 수행.글로벌 반도체 산업의 미세화 및 복잡성 증가 추세에 맞춰 EUV 리소그래피의 핵심 병목 현상인 마스크 결함 검사를 해결하는 데 필수적인 공급자 역할 수행.
- 적용 산업
- 반도체 산업: EUV 리소그래피 공정의 마스크 및 웨이퍼 검사, 차세대 반도체 소자 제조의 품질 및 수율 향상.반도체 산업: EUV 리소그래피 공정의 마스크 및 웨이퍼 검사, 차세대 반도체 소자 제조의 품질 및 수율 향상.
- 평판 디스플레이(FPD) 산업: 고해상도 FPD 포토마스크 검사, 유기 LED 패널 생산에 필요한 포토마스크 검사.평판 디스플레이(FPD) 산업: 고해상도 FPD 포토마스크 검사, 유기 LED 패널 생산에 필요한 포토마스크 검사.
- 에너지 및 환경 분야: SiC 웨이퍼 검사, GaN 웨이퍼 검사, 리튬 이온 배터리 내부 전기화학 반응 시각화.에너지 및 환경 분야: SiC 웨이퍼 검사, GaN 웨이퍼 검사, 리튬 이온 배터리 내부 전기화학 반응 시각화.
- 연구 개발 및 품질 관리: 반도체 재료, 투명 필름, 코팅 재료, 무기/유기 재료, 생물학적 샘플, 금속 부품, 플라스틱 부품 등 다양한 산업 분야의 R&D 및 품질 관리.연구 개발 및 품질 관리: 반도체 재료, 투명 필름, 코팅 재료, 무기/유기 재료, 생물학적 샘플, 금속 부품, 플라스틱 부품 등 다양한 산업 분야의 R&D 및 품질 관리.
- 첨단 패키징: 2.5D/3D, 마이크로 범프, TSV, 하이브리드 본드 및 RDL 검사 등 HBM(고대역폭 메모리) 공급망 성장 관련 검사.첨단 패키징: 2.5D/3D, 마이크로 범프, TSV, 하이브리드 본드 및 RDL 검사 등 HBM(고대역폭 메모리) 공급망 성장 관련 검사.
- 주요 시장
- 대만, 한국, 일본, 아시아 태평양 지역 (중국 포함)대만, 한국, 일본, 아시아 태평양 지역 (중국 포함)
- 유럽유럽
- 미국미국
- 인증/특허
- 총 487개의 특허를 전 세계적으로 보유하며, 이 중 231개가 활성 특허. 일본, 미국, 독일에서 가장 많은 특허 출원.총 487개의 특허를 전 세계적으로 보유하며, 이 중 231개가 활성 특허. 일본, 미국, 독일에서 가장 많은 특허 출원.
- 기술 및 품질 우수성에 대한 다양한 수상 이력. 2013년 경제산업성 일본 특허청 장관상 수상.기술 및 품질 우수성에 대한 다양한 수상 이력. 2013년 경제산업성 일본 특허청 장관상 수상.
- Intel로부터 2025년, 2024년, 2023년 EPIC Supplier Award를 연속 수상하며 공급망 내 최고 수준의 파트너십과 성능을 인정받음.Intel로부터 2025년, 2024년, 2023년 EPIC Supplier Award를 연속 수상하며 공급망 내 최고 수준의 파트너십과 성능을 인정받음.
- TSMC로부터 2023년 "탁월한 EUV 마스크 검사 및 계측 협력" 부문에서 Excellent Performance Award를 수상.TSMC로부터 2023년 "탁월한 EUV 마스크 검사 및 계측 협력" 부문에서 Excellent Performance Award를 수상.
- SPIE Photomask Technology + EUVL Exhibition 2023에서 BACUS Prize 및 Best Paper Presentation Award 수상.SPIE Photomask Technology + EUVL Exhibition 2023에서 BACUS Prize 및 Best Paper Presentation Award 수상.
- 주요 특허로는 측정 장치 및 측정 방법(US11486693), 광학 장치 및 광학 장치 오염 방지 방법(US11353802), EUV 마스크 검사 장치(US12361536) 등이 있음.주요 특허로는 측정 장치 및 측정 방법(US11486693), 광학 장치 및 광학 장치 오염 방지 방법(US11353802), EUV 마스크 검사 장치(US12361536) 등이 있음.
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