Impedans, 아일랜드 - 코머신 판매자 소개 및 제품 소개

- Impedans는 혁신적인 플라즈마 및 RF 측정 기술의 선도적인 공급업체. 나노 스케일 제조 분야에서 정확한 공정 측정과 공정 안정성, 반복성을 위한 고급 센서 및 시스템 제공 기업. 기초 연구, 장비 설계, 교정 및 테스트, 공정 개발 및 공정 제어를 포함한 다양한 산업 및 애플리케이션에 사용되는 솔루션 제공.Impedans는 혁신적인 플라즈마 및 RF 측정 기술의 선도적인 공급업체. 나노 스케일 제조 분야에서 정확한 공정 측정과 공정 안정성, 반복성을 위한 고급 센서 및 시스템 제공 기업. 기초 연구, 장비 설계, 교정 및 테스트, 공정 개발 및 공정 제어를 포함한 다양한 산업 및 애플리케이션에 사용되는 솔루션 제공.
- 벌크 플라즈마 센서 (Bulk Plasma Sensors): Langmuir Probe 시스템은 플라즈마 전위, 전하 입자 밀도 (전자 및 이온), 전자 온도와 같은 핵심 플라즈마 매개변수를 측정. Plato Probe는 증착 플라즈마에서 절연막이 프로브 표면에 증착될 때 작동하도록 설계된 평면 Langmuir Probe. 이는 수십 마이크론 두께의 증착층을 통해 플라즈마 매개변수를 정확하게 측정하는 독점 기술.벌크 플라즈마 센서 (Bulk Plasma Sensors): Langmuir Probe 시스템은 플라즈마 전위, 전하 입자 밀도 (전자 및 이온), 전자 온도와 같은 핵심 플라즈마 매개변수를 측정. Plato Probe는 증착 플라즈마에서 절연막이 프로브 표면에 증착될 때 작동하도록 설계된 평면 Langmuir Probe. 이는 수십 마이크론 두께의 증착층을 통해 플라즈마 매개변수를 정확하게 측정하는 독점 기술.
- 기판 레벨 센서 (Substrate Level Sensors): Semion Retarding Field Energy Analyser (RFEA) 시스템은 실시간으로 표면에 도달하는 이온 플럭스 및 이온 에너지 분포를 측정. Semion 3 keV는 최대 3kV 피크-피크의 RF 바이어스를 가진 표면에 도달하는 이온 에너지를 측정하는 단일 센서. Quantum 시스템은 RFEA와 통합된 석영 결정 미세 저울(QCM)로 구성되어 이온 에너지 분포 함수(IEDF)와 이온-중성 증착 비율을 측정.기판 레벨 센서 (Substrate Level Sensors): Semion Retarding Field Energy Analyser (RFEA) 시스템은 실시간으로 표면에 도달하는 이온 플럭스 및 이온 에너지 분포를 측정. Semion 3 keV는 최대 3kV 피크-피크의 RF 바이어스를 가진 표면에 도달하는 이온 에너지를 측정하는 단일 센서. Quantum 시스템은 RFEA와 통합된 석영 결정 미세 저울(QCM)로 구성되어 이온 에너지 분포 함수(IEDF)와 이온-중성 증착 비율을 측정.
- RF 전압-전류 (VI) 프로브 (RF Voltage-Current (VI) Probes): RF 파라미터를 측정하도록 설계된 센서로, 연속파 및 펄스 RF 애플리케이션에서 정확한 인라인 RF 전력 및 임피던스 측정 가능. 최대 15개의 고조파 주파수에 대한 동일한 매개변수 측정 및 RF 파형 재현, 플라즈마 이온 플럭스 예측 기능 제공. Octiv 제품군은 최대 6.0:1 VSWR에서 1%의 전력 측정 정확도를 제공하며, 광범위한 임피던스에서 매우 정확한 임피던스 측정 가능.RF 전압-전류 (VI) 프로브 (RF Voltage-Current (VI) Probes): RF 파라미터를 측정하도록 설계된 센서로, 연속파 및 펄스 RF 애플리케이션에서 정확한 인라인 RF 전력 및 임피던스 측정 가능. 최대 15개의 고조파 주파수에 대한 동일한 매개변수 측정 및 RF 파형 재현, 플라즈마 이온 플럭스 예측 기능 제공. Octiv 제품군은 최대 6.0:1 VSWR에서 1%의 전력 측정 정확도를 제공하며, 광범위한 임피던스에서 매우 정확한 임피던스 측정 가능.
- Moduli RF 분광계 (Moduli RF Spectrometer): 플라즈마 챔버 외부에서 플라즈마에 의해 방출되는 고조파를 직접 모니터링하는 비침습적 RF 감지기. 인라인 RF 센서 설치가 불가능한 시나리오에 적합하며, 생산 장비의 종점 감지 및 결함 감지에 사용.Moduli RF 분광계 (Moduli RF Spectrometer): 플라즈마 챔버 외부에서 플라즈마에 의해 방출되는 고조파를 직접 모니터링하는 비침습적 RF 감지기. 인라인 RF 센서 설치가 불가능한 시나리오에 적합하며, 생산 장비의 종점 감지 및 결함 감지에 사용.
- 혁신적인 플라즈마 및 RF 측정 기술 선도 기업. 나노 스케일 제조의 미래에 필수적인 정확한 공정 측정, 공정 안정성 및 반복성 제공.혁신적인 플라즈마 및 RF 측정 기술 선도 기업. 나노 스케일 제조의 미래에 필수적인 정확한 공정 측정, 공정 안정성 및 반복성 제공.
- 플라즈마 물리학 전문가 팀을 통한 심층적인 지식과 지원. 초기 상담부터 지속적인 유지보수 및 지원까지 전체 프로세스에 걸친 전문성 제공.플라즈마 물리학 전문가 팀을 통한 심층적인 지식과 지원. 초기 상담부터 지속적인 유지보수 및 지원까지 전체 프로세스에 걸친 전문성 제공.
- ISO 9001, ISO 45001, ISO 14001 인증을 통한 품질 관리, 직원 안전 및 환경 지속 가능성에 대한 높은 표준 준수. 고객 기대치를 뛰어넘는 제품 및 서비스의 일관된 제공 능력.ISO 9001, ISO 45001, ISO 14001 인증을 통한 품질 관리, 직원 안전 및 환경 지속 가능성에 대한 높은 표준 준수. 고객 기대치를 뛰어넘는 제품 및 서비스의 일관된 제공 능력.
- PlatoProbe와 같은 독점적인 특허 기술 보유. 증착 플라즈마 환경에서 증착층을 통해 정확한 플라즈마 매개변수 측정이 가능한 유일한 Langmuir Probe 시스템.PlatoProbe와 같은 독점적인 특허 기술 보유. 증착 플라즈마 환경에서 증착층을 통해 정확한 플라즈마 매개변수 측정이 가능한 유일한 Langmuir Probe 시스템.
- 최고의 샘플링 속도 (80 MS/s)를 자랑하는 Langmuir Probe 시스템. 펄스 프로파일링 및 단일 샷 플라즈마를 탁월한 시간 해상도로 측정하는 능력.최고의 샘플링 속도 (80 MS/s)를 자랑하는 Langmuir Probe 시스템. 펄스 프로파일링 및 단일 샷 플라즈마를 탁월한 시간 해상도로 측정하는 능력.
- NIST(미국 국립표준기술연구소) 추적 가능한 1% 정확도의 RF 전력 및 임피던스 측정. 광범위한 VSWR 범위에서 정확도를 유지하는 고급 교정 방법론.NIST(미국 국립표준기술연구소) 추적 가능한 1% 정확도의 RF 전력 및 임피던스 측정. 광범위한 VSWR 범위에서 정확도를 유지하는 고급 교정 방법론.
- 반도체 제조 (Semiconductor Manufacturing): 공정 개발, 실시간 공정 모니터링 및 장비 유지보수.반도체 제조 (Semiconductor Manufacturing): 공정 개발, 실시간 공정 모니터링 및 장비 유지보수.
- 연구 및 개발 (Research and Development): 대학 및 연구 기관의 플라즈마 물리학 연구, 장비 개발, 공정 개발 및 모델 검증.연구 및 개발 (Research and Development): 대학 및 연구 기관의 플라즈마 물리학 연구, 장비 개발, 공정 개발 및 모델 검증.
- 진공 코팅 (Vacuum Coating): 고품질 박막 개발.진공 코팅 (Vacuum Coating): 고품질 박막 개발.
- 태양광 (Solar): 플라즈마 표면 활성화를 통한 태양 전지 효율 개선.태양광 (Solar): 플라즈마 표면 활성화를 통한 태양 전지 효율 개선.
- 항공우주 및 군사 (Aerospace & Military): 재료 코팅 성능 및 추진기 성능 향상, 기초 플라즈마 연구.항공우주 및 군사 (Aerospace & Military): 재료 코팅 성능 및 추진기 성능 향상, 기초 플라즈마 연구.
- 의료기기 제조 (Medical Device Manufacturing): 표면 활성화 공정의 성능, 수율 및 처리량 개선.의료기기 제조 (Medical Device Manufacturing): 표면 활성화 공정의 성능, 수율 및 처리량 개선.
- RF 전력 (RF Power): 통신 및 방송, RF 살균, RF 가열, 레이더 산업.RF 전력 (RF Power): 통신 및 방송, RF 살균, RF 가열, 레이더 산업.
- 평판 디스플레이 (Flat Panel), 박막 (Thin Film), 하드 디스크 (Hard Disk) 산업.평판 디스플레이 (Flat Panel), 박막 (Thin Film), 하드 디스크 (Hard Disk) 산업.
- 대한민국 (Komachine 정보 기반)대한민국 (Komachine 정보 기반)
- 아일랜드 (본사), 스위스 (CERN)아일랜드 (본사), 스위스 (CERN)
- 미국 (Applied Materials)미국 (Applied Materials)
- 호주 (Australian National University)호주 (Australian National University)
- ISO 9001 (품질 경영 시스템) 인증.ISO 9001 (품질 경영 시스템) 인증.
- ISO 45001 (안전 보건 경영 시스템) 인증.ISO 45001 (안전 보건 경영 시스템) 인증.
- ISO 14001 (환경 경영 시스템) 인증.ISO 14001 (환경 경영 시스템) 인증.
- 특허 번호 12399474: 플라즈마 처리 시스템의 매칭 유닛 컨트롤러 (Controller for a matching unit of a plasma processing system).특허 번호 12399474: 플라즈마 처리 시스템의 매칭 유닛 컨트롤러 (Controller for a matching unit of a plasma processing system).
- 특허 번호 12136542: 플라즈마 공정의 이온 에너지 분석 장치 (Apparatus for ion energy analysis of plasma processes).특허 번호 12136542: 플라즈마 공정의 이온 에너지 분석 장치 (Apparatus for ion energy analysis of plasma processes).
- 특허 번호 11908668: 플라즈마 공정의 이온 에너지 분석 장치 (Apparatus for ion energy analysis of plasma processes).특허 번호 11908668: 플라즈마 공정의 이온 에너지 분석 장치 (Apparatus for ion energy analysis of plasma processes).
- 특허 번호 9263236: 플라즈마 공정 매개변수 감지 (Sensing of plasma process parameters).특허 번호 9263236: 플라즈마 공정 매개변수 감지 (Sensing of plasma process parameters).
- PlatoProbe의 초고속 바이어싱(ultrafast biasing) 기술은 증착된 필름을 관통하여 정확한 플라즈마 매개변수를 측정하는 특허 기술.PlatoProbe의 초고속 바이어싱(ultrafast biasing) 기술은 증착된 필름을 관통하여 정확한 플라즈마 매개변수를 측정하는 특허 기술.