기업 기본 정보
설립일자
2017-03-14
업종
반도체 제조용 기계 제조업
운영여부
운영중
업데이트
2025-12-04
기업 개요
- 한줄 요약
- HPSP는 반도체 산업의 핵심 공정 장비인 고압 어닐링 및 산화 장비를 제조, 공급하는 글로벌 선도 기업. 세계 최초로 고압 수소 어닐링 기술을 상용화하며 독점적인 시장 지위를 확보한 기업. 거의 모든 첨단 애플리케이션 프로세서(AP)가 HPSP의 기술로 제작되는 등 초미세 반도체 공정 성능 개선에 필수적인 기술력 보유. 반도체 소자의 계면 결함을 효과적으로 제거하여 트랜지스터 성능 및 신뢰성을 향상시키는 솔루션 제공 기업.HPSP는 반도체 산업의 핵심 공정 장비인 고압 어닐링 및 산화 장비를 제조, 공급하는 글로벌 선도 기업. 세계 최초로 고압 수소 어닐링 기술을 상용화하며 독점적인 시장 지위를 확보한 기업. 거의 모든 첨단 애플리케이션 프로세서(AP)가 HPSP의 기술로 제작되는 등 초미세 반도체 공정 성능 개선에 필수적인 기술력 보유. 반도체 소자의 계면 결함을 효과적으로 제거하여 트랜지스터 성능 및 신뢰성을 향상시키는 솔루션 제공 기업.
- 대표 제품군/보유 기술
- **고압 수소 어닐링 장비 (GENI-SYS)**: HPSP의 주력 제품으로, 200mm 및 300mm 웨이퍼에 적용 가능한 수직형 고압 열처리 퍼니스 시스템. 최대 25 ATM의 고압 환경에서 450°C 이하의 저온 공정으로 100% 수소 농도를 유지하며 어닐링 구현. 14nm 및 그 이하의 첨단 노드(2nm 이하) 장치에 필수적인 기술로, 로직, 메모리(3D NAND), CIS 등 다양한 반도체 소자의 성능 개선. High-K, Metal Gate, Metal Silicides 등 CMOS 장치 개선에 기여하는 핵심 기술.**고압 수소 어닐링 장비 (GENI-SYS)**: HPSP의 주력 제품으로, 200mm 및 300mm 웨이퍼에 적용 가능한 수직형 고압 열처리 퍼니스 시스템. 최대 25 ATM의 고압 환경에서 450°C 이하의 저온 공정으로 100% 수소 농도를 유지하며 어닐링 구현. 14nm 및 그 이하의 첨단 노드(2nm 이하) 장치에 필수적인 기술로, 로직, 메모리(3D NAND), CIS 등 다양한 반도체 소자의 성능 개선. High-K, Metal Gate, Metal Silicides 등 CMOS 장치 개선에 기여하는 핵심 기술.
- **고압 산화 공정 (High Pressure Oxidation, HPO)**: 고압 수소 어닐링 기술을 기반으로 확장된 기술로, 다양한 가스를 활용한 산화막 형성 및 고급 필름 품질 개선. MEMS, Solar Cell, Optoelectronics, FPD 등 다양한 장치에 두꺼운 산화막 적용을 위한 솔루션.**고압 산화 공정 (High Pressure Oxidation, HPO)**: 고압 수소 어닐링 기술을 기반으로 확장된 기술로, 다양한 가스를 활용한 산화막 형성 및 고급 필름 품질 개선. MEMS, Solar Cell, Optoelectronics, FPD 등 다양한 장치에 두꺼운 산화막 적용을 위한 솔루션.
- **하이브리드 본딩용 어닐링 장비**: 차세대 메모리 시장을 겨냥한 신규 장비 개발을 추진 중. 하이브리드 본딩 과정에서 불균형해지는 구리 표면의 균일도를 높이는 어닐링 설비 개발 진행 중.**하이브리드 본딩용 어닐링 장비**: 차세대 메모리 시장을 겨냥한 신규 장비 개발을 추진 중. 하이브리드 본딩 과정에서 불균형해지는 구리 표면의 균일도를 높이는 어닐링 설비 개발 진행 중.
- 경쟁 우위 포인트
- **세계 유일의 독점 기술 플랫폼**: 고압 수소 어닐링 장비 분야에서 HPSP만이 상업적으로 공급하는 사실상 독점적인 기술 보유. 지난 15년간 동일 수준의 경쟁 장비가 등장하지 않은 독보적인 기술력.**세계 유일의 독점 기술 플랫폼**: 고압 수소 어닐링 장비 분야에서 HPSP만이 상업적으로 공급하는 사실상 독점적인 기술 보유. 지난 15년간 동일 수준의 경쟁 장비가 등장하지 않은 독보적인 기술력.
- **혁신적인 저온 고압 공정 기술**: 450°C 이하의 저온에서 100% 수소 농도를 구현하여 웨이퍼 손상을 최소화하는 기술력. 기존 고온 어닐링의 한계를 극복하고 2nm 이하의 초미세 공정에 적용 가능한 차별화된 솔루션.**혁신적인 저온 고압 공정 기술**: 450°C 이하의 저온에서 100% 수소 농도를 구현하여 웨이퍼 손상을 최소화하는 기술력. 기존 고온 어닐링의 한계를 극복하고 2nm 이하의 초미세 공정에 적용 가능한 차별화된 솔루션.
- **글로벌 Top-tier 고객사 확보 및 높은 신뢰도**: 삼성전자, SK하이닉스, TSMC, 마이크론, 인텔 등 세계 유수의 반도체 제조업체들을 주요 고객사로 확보. 고객사의 양산 라인에 깊이 통합되어 있어 후발 업체의 단기간 내 대체가 어려운 시장 지위.**글로벌 Top-tier 고객사 확보 및 높은 신뢰도**: 삼성전자, SK하이닉스, TSMC, 마이크론, 인텔 등 세계 유수의 반도체 제조업체들을 주요 고객사로 확보. 고객사의 양산 라인에 깊이 통합되어 있어 후발 업체의 단기간 내 대체가 어려운 시장 지위.
- **지속적인 R&D 투자 및 글로벌 협력**: imec과의 공동 연구 개발 프로젝트를 통해 고압 어닐링 및 산화 공정 기술을 확장하고 선행 연구를 진행. 국내 신규 R&D 센터 개관을 통해 HPA 및 HPO 기술을 기존 공정 이외의 타 공정으로 확장하는 기술 개발 추진.**지속적인 R&D 투자 및 글로벌 협력**: imec과의 공동 연구 개발 프로젝트를 통해 고압 어닐링 및 산화 공정 기술을 확장하고 선행 연구를 진행. 국내 신규 R&D 센터 개관을 통해 HPA 및 HPO 기술을 기존 공정 이외의 타 공정으로 확장하는 기술 개발 추진.
- **독점적 지위 강화를 위한 특허 전략**: 경쟁사와의 특허 분쟁에서 승소하며 기술력 우위와 독점적 지위를 공고히 한 경험. 특허 기반의 높은 진입 장벽 구축으로 가격 경쟁 압력 및 저가 수주 리스크가 낮은 사업 구조.**독점적 지위 강화를 위한 특허 전략**: 경쟁사와의 특허 분쟁에서 승소하며 기술력 우위와 독점적 지위를 공고히 한 경험. 특허 기반의 높은 진입 장벽 구축으로 가격 경쟁 압력 및 저가 수주 리스크가 낮은 사업 구조.
- **고부가가치 제품 중심의 높은 수익성**: 독점적 기술과 고부가가치 제품 중심의 사업 구조를 통해 50% 이상의 높은 영업이익률 달성. 장비 납품 이후 유지보수, 업그레이드, 부품 공급 등에서 발생하는 후속 수익 비중 확대.**고부가가치 제품 중심의 높은 수익성**: 독점적 기술과 고부가가치 제품 중심의 사업 구조를 통해 50% 이상의 높은 영업이익률 달성. 장비 납품 이후 유지보수, 업그레이드, 부품 공급 등에서 발생하는 후속 수익 비중 확대.
- 적용 산업
- 반도체 전공정 산업반도체 전공정 산업
- 첨단 로직 반도체 제조 산업첨단 로직 반도체 제조 산업
- 메모리 반도체 (DRAM, 3D NAND) 제조 산업메모리 반도체 (DRAM, 3D NAND) 제조 산업
- 파운드리 산업파운드리 산업
- 시스템 반도체 제조 산업시스템 반도체 제조 산업
- CMOS 장치 제조 산업 (High-K, Metal Gate, Metal Silicides 포함)CMOS 장치 제조 산업 (High-K, Metal Gate, Metal Silicides 포함)
- MEMS, Solar Cell, Optoelectronics, FPD 등 특수 장치 제조 산업 (고압 산화막 적용)MEMS, Solar Cell, Optoelectronics, FPD 등 특수 장치 제조 산업 (고압 산화막 적용)
- AI 반도체 및 고대역폭 메모리(HBM) 제조 산업AI 반도체 및 고대역폭 메모리(HBM) 제조 산업
- 주요 시장
- 대한민국, 대만, 중국대한민국, 대만, 중국
- 벨기에벨기에
- 미국미국
- 인증/특허
- 고압 수소 어닐링 기술 관련 독점적 특허 다수 보유.고압 수소 어닐링 기술 관련 독점적 특허 다수 보유.
- 경쟁사와의 특허 분쟁에서 승소하며 기술적 우위 및 독점적 지위 입증.경쟁사와의 특허 분쟁에서 승소하며 기술적 우위 및 독점적 지위 입증.
- 글로벌 반도체 공정 안전 및 품질 인증 획득.글로벌 반도체 공정 안전 및 품질 인증 획득.
- 고유전율(High-K) 절연막을 사용하는 트랜지스터의 계면 특성 개선 기술에 대한 연구개발 및 제조 전문성.고유전율(High-K) 절연막을 사용하는 트랜지스터의 계면 특성 개선 기술에 대한 연구개발 및 제조 전문성.
기업 소개
기업 위치
경기도 화성시 삼성전자로 1-1