기업 기본 정보
설립일자
2007-01-23
업종
기타 반도체소자 제조업
운영여부
운영중
업데이트
2025-12-04
기업 개요
- 한줄 요약
- 하나머티리얼즈는 반도체 핵심 제조 공정인 Dry etching에 사용되는 실리콘(Si) 및 실리콘카바이드(SiC) 소재의 전극(Electrode)과 링(Ring)을 전문적으로 생산하는 첨단 소재부품 제조업체. 세계 최대 구경의 싱글 크리스탈 잉곳 개발 성공과 일관생산체제 구축을 통한 글로벌 반도체 장비 기업으로의 핵심 부품 공급 역량 보유 기업.하나머티리얼즈는 반도체 핵심 제조 공정인 Dry etching에 사용되는 실리콘(Si) 및 실리콘카바이드(SiC) 소재의 전극(Electrode)과 링(Ring)을 전문적으로 생산하는 첨단 소재부품 제조업체. 세계 최대 구경의 싱글 크리스탈 잉곳 개발 성공과 일관생산체제 구축을 통한 글로벌 반도체 장비 기업으로의 핵심 부품 공급 역량 보유 기업.
- 대표 제품군/보유 기술
- 반도체 Dry etching 공정용 실리콘(Si) 전극 및 링: 웨이퍼 식각 시 가스를 균일하게 분사하고 웨이퍼를 고정하는 핵심 소모성 부품. 550mm~240mm 외경, 0.02Ω·cm 미만의 저저항, 5% 미만의 RRG, 0.8~0.2mm 직경의 가스 홀 정밀도, 10㎛ 미만의 표면 평탄도 및 가공 정밀도, 치핑, 스크래치, 크랙 없는 품질 관리 능력.반도체 Dry etching 공정용 실리콘(Si) 전극 및 링: 웨이퍼 식각 시 가스를 균일하게 분사하고 웨이퍼를 고정하는 핵심 소모성 부품. 550mm~240mm 외경, 0.02Ω·cm 미만의 저저항, 5% 미만의 RRG, 0.8~0.2mm 직경의 가스 홀 정밀도, 10㎛ 미만의 표면 평탄도 및 가공 정밀도, 치핑, 스크래치, 크랙 없는 품질 관리 능력.
- 반도체 Dry etching 공정용 실리콘카바이드(SiC) 링: 고온 및 고밀도 플라즈마 환경에서 우수한 내구성을 제공하며, 3D NAND와 같은 고집적 반도체 공정에 필수적인 소모성 부품. CVD SiC 증착 기술 및 흑연(GR) SiC 신제품 개발 추진 중.반도체 Dry etching 공정용 실리콘카바이드(SiC) 링: 고온 및 고밀도 플라즈마 환경에서 우수한 내구성을 제공하며, 3D NAND와 같은 고집적 반도체 공정에 필수적인 소모성 부품. CVD SiC 증착 기술 및 흑연(GR) SiC 신제품 개발 추진 중.
- 싱글 크리스탈 잉곳(Single Crystal Ingot) 성장 기술: 세계 최대 구경인 600mm 실리콘 잉곳 개발에 성공한 핵심 기술력 보유. 다결정 실리콘 잉곳을 직접 성장시키고 가공하여 실리콘 부품을 생산하는 일관생산체제 구축.싱글 크리스탈 잉곳(Single Crystal Ingot) 성장 기술: 세계 최대 구경인 600mm 실리콘 잉곳 개발에 성공한 핵심 기술력 보유. 다결정 실리콘 잉곳을 직접 성장시키고 가공하여 실리콘 부품을 생산하는 일관생산체제 구축.
- 파인 세라믹스 부품: 알루미늄 나이트라이드(AlN) 및 알루미늄 옥사이드(Al2O3)를 포함하며, 높은 열전도성, 절연성, 내식성, 고경도 등의 특성을 활용한 반도체 Dry etcher 및 CVD 공정, LED 기판 및 방열판 등에 적용되는 소재.파인 세라믹스 부품: 알루미늄 나이트라이드(AlN) 및 알루미늄 옥사이드(Al2O3)를 포함하며, 높은 열전도성, 절연성, 내식성, 고경도 등의 특성을 활용한 반도체 Dry etcher 및 CVD 공정, LED 기판 및 방열판 등에 적용되는 소재.
- 경쟁 우위 포인트
- 세계 최고 수준의 대구경 잉곳 성장 기술력: 450mm 웨이퍼 공정 대응을 넘어 600mm 실리콘 잉곳 개발에 성공하며 차세대 반도체 공정 대비를 완료한 선도적 기술력. 이는 반도체 회로의 고집적화 및 경제성 향상에 기여하는 핵심 역량.세계 최고 수준의 대구경 잉곳 성장 기술력: 450mm 웨이퍼 공정 대응을 넘어 600mm 실리콘 잉곳 개발에 성공하며 차세대 반도체 공정 대비를 완료한 선도적 기술력. 이는 반도체 회로의 고집적화 및 경제성 향상에 기여하는 핵심 역량.
- 소재부터 가공, 세정까지 아우르는 일관생산체제 구축: 다결정 실리콘 잉곳의 직접 성장부터 부품 가공 및 세정까지 전 공정을 내재화하여 안정적인 공급망과 품질 경쟁력을 확보한 시스템. 이를 통해 글로벌 고객사의 요구에 신속하고 유연하게 대응하는 능력.소재부터 가공, 세정까지 아우르는 일관생산체제 구축: 다결정 실리콘 잉곳의 직접 성장부터 부품 가공 및 세정까지 전 공정을 내재화하여 안정적인 공급망과 품질 경쟁력을 확보한 시스템. 이를 통해 글로벌 고객사의 요구에 신속하고 유연하게 대응하는 능력.
- 글로벌 주요 반도체 장비 기업과의 강력한 파트너십: Tokyo Electron(TEL), SEMES, 삼성전자, AMAT 등 세계 유수의 반도체 장비 및 제조 기업에 핵심 부품을 납품하며 독점적 지위와 강력한 협력 관계 구축. 특히 TEL의 식각 장비 시장 점유율 확대에 따른 수혜 기대.글로벌 주요 반도체 장비 기업과의 강력한 파트너십: Tokyo Electron(TEL), SEMES, 삼성전자, AMAT 등 세계 유수의 반도체 장비 및 제조 기업에 핵심 부품을 납품하며 독점적 지위와 강력한 협력 관계 구축. 특히 TEL의 식각 장비 시장 점유율 확대에 따른 수혜 기대.
- 고부가가치 SiC 부품 사업 포트폴리오 다각화: 기존 실리콘 부품 위주에서 고온 및 플라즈마 환경에 강한 SiC 링으로 사업 영역을 확장하며 반도체 공정 미세화 및 고단화 추세에 대응한 경쟁력 강화. CVD SiC 증착 기술 및 실리콘 음극재 등 신소재 개발을 통한 지속적인 기술 혁신.고부가가치 SiC 부품 사업 포트폴리오 다각화: 기존 실리콘 부품 위주에서 고온 및 플라즈마 환경에 강한 SiC 링으로 사업 영역을 확장하며 반도체 공정 미세화 및 고단화 추세에 대응한 경쟁력 강화. CVD SiC 증착 기술 및 실리콘 음극재 등 신소재 개발을 통한 지속적인 기술 혁신.
- 지속적인 연구 개발 및 특허 확보 노력: 반도체 소재 국산화를 위한 잉곳 성장 기술 개발, CVD SiC 증착 기술, 초정밀 부품 가공 기술 등 다양한 첨단 소재 기술 개발에 끊임없이 투자하는 역량. 실리콘 소재 제조 및 표면 처리 관련 특허 보유를 통한 기술적 우위 확보.지속적인 연구 개발 및 특허 확보 노력: 반도체 소재 국산화를 위한 잉곳 성장 기술 개발, CVD SiC 증착 기술, 초정밀 부품 가공 기술 등 다양한 첨단 소재 기술 개발에 끊임없이 투자하는 역량. 실리콘 소재 제조 및 표면 처리 관련 특허 보유를 통한 기술적 우위 확보.
- 적용 산업
- 반도체 제조 산업: Dry etching, 박막 증착(CVD), 세정, 웨이퍼 가공, 조립 등 반도체 핵심 제조 공정에 필수적인 소모성 부품 공급. 특히 3D NAND와 같은 고집적 메모리 반도체 생산 공정.반도체 제조 산업: Dry etching, 박막 증착(CVD), 세정, 웨이퍼 가공, 조립 등 반도체 핵심 제조 공정에 필수적인 소모성 부품 공급. 특히 3D NAND와 같은 고집적 메모리 반도체 생산 공정.
- 디스플레이 산업: 과거 특수가스 사업을 통해 디스플레이 공정에 기여한 이력.디스플레이 산업: 과거 특수가스 사업을 통해 디스플레이 공정에 기여한 이력.
- LED 산업: 파인 세라믹스 부품 중 알루미늄 나이트라이드(AlN)는 LED 기판 및 방열판에 적용되는 소재.LED 산업: 파인 세라믹스 부품 중 알루미늄 나이트라이드(AlN)는 LED 기판 및 방열판에 적용되는 소재.
- 이차전지 소재 산업: 기타 이차전지 소재 개발 및 제조, 판매 통합 시스템 솔루션 개발 및 구축 서비스 사업 영역 보유.이차전지 소재 산업: 기타 이차전지 소재 개발 및 제조, 판매 통합 시스템 솔루션 개발 및 구축 서비스 사업 영역 보유.
- 주요 시장
- 대한민국, 일본대한민국, 일본
- 미국미국
- 인증/특허
- 등록특허 제0918076호 및 제0922620호 등 실리콘 소재 제조 및 표면 처리 관련 특허 보유. 이는 실리콘 판 및 전극판의 표면 평탄도 향상, 내부 데미지 감소, 플라즈마 처리 시 파티클 발생 방지 효과를 제공하는 기술.등록특허 제0918076호 및 제0922620호 등 실리콘 소재 제조 및 표면 처리 관련 특허 보유. 이는 실리콘 판 및 전극판의 표면 평탄도 향상, 내부 데미지 감소, 플라즈마 처리 시 파티클 발생 방지 효과를 제공하는 기술.
- 제11회 대한민국 코스닥 대상 '최우수 차세대 기업상' 수상 (2019년).제11회 대한민국 코스닥 대상 '최우수 차세대 기업상' 수상 (2019년).
- 국가생산성대회 대통령 표창 수상 (2021년).국가생산성대회 대통령 표창 수상 (2021년).
- 대한민국 일자리 으뜸기업 선정 (2020년, 2023년).대한민국 일자리 으뜸기업 선정 (2020년, 2023년).
- 근무혁신 우수기업 A등급 (2023년) 및 장애인고용 우수사업주 인증 (2022년).근무혁신 우수기업 A등급 (2023년) 및 장애인고용 우수사업주 인증 (2022년).
- 노사문화우수기업 인증 (2017년) 및 2천만불 수출의 탑 수상 (2017년).노사문화우수기업 인증 (2017년) 및 2천만불 수출의 탑 수상 (2017년).
기업 소개
기업 위치
충청남도 천안시 서북구 3공단3로 50