㈜지오엘리먼트는 2005년 설립된 반도체 부품 및 소재 전문 기업으로, 전자재료 양산 과정의 핵심인 박막 증착 공정에 필수적인 고품질 부품과 소재를 제공하는 기업. 특히 원자층 증착(ALD) 공정용 전구체 기화 이송 장치와 물리적 증착(PVD) 공정용 스퍼터링 타겟을 주력으로 생산하는 기업. 외국산 반도체 장비 부품의 국산화를 선도하며 국내외 반도체 산업의 기술 자립에 기여하는 기업. 2021년 코스닥 시장에 상장하여 지속적인 성장 동력을 확보하는 기업.㈜지오엘리먼트는2005년설립된반도체부품및소재전문기업으로,전자재료양산과정의핵심인박막증착공정에필수적인고품질부품과소재를제공하는기업.특히원자층증착(ALD)공정용전구체기화이송장치와물리적증착(PVD)공정용스퍼터링타겟을주력으로생산하는기업.외국산반도체장비부품의국산화를선도하며국내외반도체산업의기술자립에기여하는기업.2021년코스닥시장에상장하여지속적인성장동력을확보하는기업.
대표 제품군/보유 기술대표제품군/보유기술
ALD 전구체 기화 이송 장치: 고순도 화학물질을 보관하고 이송하는 캐니스터, 전구체 액위를 정밀하게 측정하는 초음파 레벨 센서, 기화기 등 다양한 부품 및 이들을 통합한 PEB(Precursor Evaporation Box) 모듈. 세계 최초 삽입 연속식 초음파 레벨 센서 개발 및 국내 시장 90% 이상의 점유율 확보.ALD전구체기화이송장치:고순도화학물질을보관하고이송하는캐니스터,전구체액위를정밀하게측정하는초음파레벨센서,기화기등다양한부품및이들을통합한PEB(PrecursorEvaporationBox)모듈.세계최초삽입연속식초음파레벨센서개발및국내시장90%이상의점유율확보.
PVD 스퍼터링 타겟: 전자소자 양산 공정에 사용되는 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 구리(Cu) 등 고순도 금속 원판 형태의 스퍼터링 타겟. 국내 최초 300mm 반도체 양산 공정에 알루미늄, 티타늄, 구리계 타겟을 국산화하여 공급하는 기업.PVD스퍼터링타겟:전자소자양산공정에사용되는알루미늄(Al),티타늄(Ti),구리(Cu)등고순도금속원판형태의스퍼터링타겟.국내최초300mm반도체양산공정에알루미늄,티타늄,구리계타겟을국산화하여공급하는기업.
솔리드 캐니스터: 차세대 고체형 전구체(Solid Precursor)를 안정적으로 기화 및 이송하는 장치로, 고집적 반도체 공정에 필수적인 고성능 히팅 시스템과 정교한 제어 기술을 요구하는 제품. 2026년부터 양산이 본격화될 전망으로, 기존 액상 대비 높은 평균판매단가(ASP)와 교체 주기 단축 효과를 기대하는 제품.솔리드캐니스터:차세대고체형전구체(SolidPrecursor)를안정적으로기화및이송하는장치로,고집적반도체공정에필수적인고성능히팅시스템과정교한제어기술을요구하는제품.2026년부터양산이본격화될전망으로,기존액상대비높은평균판매단가(ASP)와교체주기단축효과를기대하는제품.
대용량 액상 프리커서 기화 공급장치: 일본에 100% 의존하던 반도체 장비 부품을 국산화한 장치로, 최대 150℃까지 가열 가능하여 기화 속도 및 웨이퍼 공정 속도를 향상하는 기술. 기존 장치와 유사한 부피에 프리커서 용량을 늘리고 가스 공급량을 실시간으로 조절하는 기능 포함.대용량액상프리커서기화공급장치:일본에100%의존하던반도체장비부품을국산화한장치로,최대150℃까지가열가능하여기화속도및웨이퍼공정속도를향상하는기술.기존장치와유사한부피에프리커서용량을늘리고가스공급량을실시간으로조절하는기능포함.
베이크 히터: 반도체 노광 공정 전후 단계에서 웨이퍼 전 영역을 균일하게 가열하는 장치로, 자회사 지오어플라이언스를 통해 개발 중이며 2025년 상반기 고객사 공급을 목표로 하는 제품.베이크히터:반도체노광공정전후단계에서웨이퍼전영역을균일하게가열하는장치로,자회사지오어플라이언스를통해개발중이며2025년상반기고객사공급을목표로하는제품.
경쟁 우위 포인트경쟁우위포인트
독보적인 국산화 기술력: 일본에 100% 의존하던 액상 프리커서 기화 공급장치 및 300mm 반도체용 스퍼터링 타겟(Al, Ti, Cu)의 국내 최초 국산화 성공. 이는 국내 반도체 산업의 공급망 안정화와 기술 자립에 크게 기여하는 요소.독보적인국산화기술력:일본에100%의존하던액상프리커서기화공급장치및300mm반도체용스퍼터링타겟(Al,Ti,Cu)의국내최초국산화성공.이는국내반도체산업의공급망안정화와기술자립에크게기여하는요소.
선도적인 ALD/PVD 핵심 부품 기술: 세계 최초 삽입 연속식 초음파 레벨 센서 개발 및 MER(Mass Evaporation Rate) 기술을 활용한 맞춤형 캐니스터 생산 능력. 캐니스터와 레벨 센서를 통합한 PEB 모듈을 국내 유일하게 공급하는 차별화된 포지션.선도적인ALD/PVD핵심부품기술:세계최초삽입연속식초음파레벨센서개발및MER(MassEvaporationRate)기술을활용한맞춤형캐니스터생산능력.캐니스터와레벨센서를통합한PEB모듈을국내유일하게공급하는차별화된포지션.
높은 국내 시장 점유율 및 기술 신뢰도: ALD 캐니스터 및 초음파 레벨 센서 국내 시장에서 90% 이상의 압도적인 점유율을 보유. 글로벌 경쟁사(NSI)가 자사 캐니스터에 동사의 센서를 채택할 만큼 품질 경쟁력을 검증받은 기술력.높은국내시장점유율및기술신뢰도:ALD캐니스터및초음파레벨센서국내시장에서90%이상의압도적인점유율을보유.글로벌경쟁사(NSI)가자사캐니스터에동사의센서를채택할만큼품질경쟁력을검증받은기술력.
증착 공정 수직 포트폴리오 구축 및 사업 다각화: ALD, PVD, 센서, 히팅 기술로 이어지는 증착 공정 전반의 수직 포트폴리오를 구축하여 국내에서 보기 드문 증착 생태계 통합 플레이어로 진화. 이는 고객사 스펙 확장, 매출 기반 다변화, 중장기 유효 시장(TAM) 확대로 이어지는 구조적 전환점.증착공정수직포트폴리오구축및사업다각화:ALD,PVD,센서,히팅기술로이어지는증착공정전반의수직포트폴리오를구축하여국내에서보기드문증착생태계통합플레이어로진화.이는고객사스펙확장,매출기반다변화,중장기유효시장(TAM)확대로이어지는구조적전환점.
높은 연구개발 투자 및 특허 경쟁력: 매출액 대비 높은 연구개발비 비중(2020년 14.0%, 2021년 9.6%)을 통해 지속적인 기술 혁신을 추구하는 기업. 초음파 레벨 센서 관련 핵심 특허가 2041년까지 유효하여 기술적 진입 장벽을 확보하는 기업.높은연구개발투자및특허경쟁력:매출액대비높은연구개발비비중(2020년14.0%,2021년9.6%)을통해지속적인기술혁신을추구하는기업.초음파레벨센서관련핵심특허가2041년까지유효하여기술적진입장벽을확보하는기업.
적용 산업적용산업
반도체 산업: ALD, PVD 박막 증착 공정 및 노광 공정 전후 단계의 베이크 히터 적용. HBM, 3D 낸드와 같은 고부가 제품 및 2나노 이하 선단 공정에 필수적인 부품 및 소재 공급.반도체산업:ALD,PVD박막증착공정및노광공정전후단계의베이크히터적용.HBM,3D낸드와같은고부가제품및2나노이하선단공정에필수적인부품및소재공급.
디스플레이 산업: 박막 증착 공정에 사용되는 원소재 및 부품 공급.디스플레이산업:박막증착공정에사용되는원소재및부품공급.
태양전지 산업: 박막 증착 공정에 사용되는 원소재 및 부품 공급.태양전지산업:박막증착공정에사용되는원소재및부품공급.
배터리 산업: 박막 증착 기술의 확장 가능성 보유.배터리산업:박막증착기술의확장가능성보유.
주요 시장주요시장
대한민국, 일본, 대만, 중국대한민국,일본,대만,중국
네덜란드네덜란드
미국미국
인증/특허인증/특허
기업부설 연구소 설립 (2006년 3월) 및 신기술 벤처기업 인정 (2006년 6월).기업부설연구소설립(2006년3월)및신기술벤처기업인정(2006년6월).
100만불 수출탑 수상 (2008년 11월).100만불수출탑수상(2008년11월).
2017 대한민국 중소, 중견기업 대상 수상 (2017년 12월).2017대한민국중소,중견기업대상수상(2017년12월).
2018 대한민국 중소기업인 대회 산업포장 수훈 (2018년 5월).2018대한민국중소기업인대회산업포장수훈(2018년5월).
중소기업벤처부 표창장 수상 (2020년 12월).중소기업벤처부표창장수상(2020년12월).
초음파 레벨 센서 관련 핵심 특허 보유 (2041년까지 유효).초음파레벨센서관련핵심특허보유(2041년까지유효).