(주)유진테크는 반도체 전공정 장비 생산 전문업체로, 국내에서 유일한 Single-type 웨이퍼 공정 개발 기업. 저압 화학기상증착(LPCVD), 플라즈마 처리, 원자층증착(ALD) 장비 분야에서 핵심 기술력을 보유한 기업. Blue Jay 시스템과 같은 대표 제품으로 세계 굴지의 반도체 소자업체 생산 라인에 기여하는 기업. 첨단 나노 공정 시대에 반도체 기술 진화를 가능하게 하는 솔루션 제공 기업.(주)유진테크는반도체전공정장비생산전문업체로,국내에서유일한Single-type웨이퍼공정개발기업.저압화학기상증착(LPCVD),플라즈마처리,원자층증착(ALD)장비분야에서핵심기술력을보유한기업.BlueJay시스템과같은대표제품으로세계굴지의반도체소자업체생산라인에기여하는기업.첨단나노공정시대에반도체기술진화를가능하게하는솔루션제공기업.
대표 제품군/보유 기술대표제품군/보유기술
Plasma Enhanced ALD System (Phoenix™): 플라즈마를 이용한 ALD 시스템 설비로, 8개의 챔버를 통해 높은 생산성을 목표로 하는 장비. Harrier-M™은 NAND, DRAM, Logic 디바이스용 미니 배치 ALD 시스템으로, 정밀 재료 공학, 우수한 스텝 커버리지, 높은 균일성, 낮은 불순물, 향상된 처리량을 제공하는 기술.PlasmaEnhancedALDSystem(Phoenix™):플라즈마를이용한ALD시스템설비로,8개의챔버를통해높은생산성을목표로하는장비.Harrier-M™은NAND,DRAM,Logic디바이스용미니배치ALD시스템으로,정밀재료공학,우수한스텝커버리지,높은균일성,낮은불순물,향상된처리량을제공하는기술.
Single Thermal LPCVD System (BlueJay™, BlueJay-e™): 국내 유일의 Single-type LPCVD 개발 공급업체로서 온도 균일성 제어와 튜닝 가능한 공정 가스 흐름을 특징으로 하는 장비. 다중 챔버 및 단일 웨이퍼 플랫폼을 통해 우수한 박막 두께 균일성과 재현성, 낮은 열 예산, 쉬운 장비 매칭을 제공하며, 최대 800°C 공정 능력과 높은 처리량을 갖춘 장비. 450mm Single Thermal LPCVD System 및 300mm 싱글 LP-CVD 장비 공급 경험.SingleThermalLPCVDSystem(BlueJay™,BlueJay-e™):국내유일의Single-typeLPCVD개발공급업체로서온도균일성제어와튜닝가능한공정가스흐름을특징으로하는장비.다중챔버및단일웨이퍼플랫폼을통해우수한박막두께균일성과재현성,낮은열예산,쉬운장비매칭을제공하며,최대800°C공정능력과높은처리량을갖춘장비.450mmSingleThermalLPCVDSystem및300mm싱글LP-CVD장비공급경험.
Single Plasma Treatment System (Albatross™): 고밀도 및 낮은 전자 온도 플라즈마를 활용하며, 특허받은 이중 회전 ICP 플라즈마 안테나 기술과 석영 챔버를 통한 금속 오염 없는 공정, 우수한 박막 균일성 및 넓은 공정 범위를 제공하는 시스템. 최대 600°C 고온 공정 능력.SinglePlasmaTreatmentSystem(Albatross™):고밀도및낮은전자온도플라즈마를활용하며,특허받은이중회전ICP플라즈마안테나기술과석영챔버를통한금속오염없는공정,우수한박막균일성및넓은공정범위를제공하는시스템.최대600°C고온공정능력.
Multi-Stack SEG(Selective Epitaxial Growth) System (Falcon™): 멀티 스택 웨이퍼 아키텍처와 독립적인 가스 분배 및 웨이퍼 회전을 특징으로 하며, 높은 생산성과 패턴 크기 효과 최소화를 실현하는 장비. 로직 디바이스 SEG 공정에 적용되는 시스템.Multi-StackSEG(SelectiveEpitaxialGrowth)System(Falcon™):멀티스택웨이퍼아키텍처와독립적인가스분배및웨이퍼회전을특징으로하며,높은생산성과패턴크기효과최소화를실현하는장비.로직디바이스SEG공정에적용되는시스템.
Dry Cleaning System (Hawk™): 메모리 및 로직 디바이스용 건식 세정 시스템으로, 완벽하게 깨끗한 Si 표면을 제공하고 깊은 컨택 플러그 통합 및 Si, SiGe, III-V 재료를 포함한 모든 Epi 공정을 지원하는 장비. 가스 화학물질을 이용한 단일 웨이퍼 건식 세정 공정 및 자체 개발 이중 회전 나선형 ICP 안테나 플라즈마 소스를 적용.DryCleaningSystem(Hawk™):메모리및로직디바이스용건식세정시스템으로,완벽하게깨끗한Si표면을제공하고깊은컨택플러그통합및Si,SiGe,III-V재료를포함한모든Epi공정을지원하는장비.가스화학물질을이용한단일웨이퍼건식세정공정및자체개발이중회전나선형ICP안테나플라즈마소스를적용.
Cyclic CVD / Mini Batch ALD System (Harrier-L™): Harrier-L™은 배치 열 및 플라즈마 강화 ALD 및 LPCVD 공정용 신제품으로, 뛰어난 대량 생산성과 높은 진공 전도도 설계 및 높은 열 제어 정확도로 우수한 공정 솔루션을 제공하는 시스템.CyclicCVD/MiniBatchALDSystem(Harrier-L™):Harrier-L™은배치열및플라즈마강화ALD및LPCVD공정용신제품으로,뛰어난대량생산성과높은진공전도도설계및높은열제어정확도로우수한공정솔루션을제공하는시스템.
경쟁 우위 포인트경쟁우위포인트
국내 유일의 Single-type 웨이퍼 공정 개발 업체로서 반도체 전공정 장비 시장에서 독점적 지위.국내유일의Single-type웨이퍼공정개발업체로서반도체전공정장비시장에서독점적지위.
Blue Jay System 등 대표 제품들이 세계 굴지의 반도체 소자업체로부터 검증받아 핵심 공정 장비로 활용되는 기술력.BlueJaySystem등대표제품들이세계굴지의반도체소자업체로부터검증받아핵심공정장비로활용되는기술력.
기술 추세를 선도하고 이끌어가는 혁신적인 연구개발 역량과 지속적인 투자. 기업부설연구소 운영 및 해외 연구개발 조직 보유.기술추세를선도하고이끌어가는혁신적인연구개발역량과지속적인투자.기업부설연구소운영및해외연구개발조직보유.
머신러닝 기술을 장비 시스템에 접목하여 D램 및 낸드플래시 공정 안정성과 설비 가동률을 개선하는 AI 기반 스마트 공정 솔루션 제공 역량. 0.1도 이하의 예측 오차율을 기록하는 온도 예측 모델을 실제 장비에 탑재.머신러닝기술을장비시스템에접목하여D램및낸드플래시공정안정성과설비가동률을개선하는AI기반스마트공정솔루션제공역량.0.1도이하의예측오차율을기록하는온도예측모델을실제장비에탑재.
Nitride Solution Provider에서 Single Wafer Deposition 분야의 Total Solution 공급 업체로 성장을 목표로 하는 제품 포트폴리오 다각화 전략. Diffusion Solution Provider로의 연구개발 매진.NitrideSolutionProvider에서SingleWaferDeposition분야의TotalSolution공급업체로성장을목표로하는제품포트폴리오다각화전략.DiffusionSolutionProvider로의연구개발매진.
2026년까지 글로벌 10대 반도체 장비 기업으로 도약하려는 적극적인 해외 시장 개척 목표.2026년까지글로벌10대반도체장비기업으로도약하려는적극적인해외시장개척목표.
적용 산업적용산업
반도체 전공정 장비 산업반도체전공정장비산업
메모리 반도체 (DRAM, NAND) 제조 산업메모리반도체(DRAM,NAND)제조산업
로직 디바이스 (LSI) 제조 산업로직디바이스(LSI)제조산업
시스템 LSI 부문시스템LSI부문
주요 시장주요시장
대한민국, 대만대한민국,대만
미국 (종속회사 Eugenus Inc.를 통한 연구개발 조직 운영)미국(종속회사EugenusInc.를통한연구개발조직운영)
인증/특허인증/특허
Albatross™ 시스템에 특허받은 이중 회전 ICP 플라즈마 안테나 기술 적용.Albatross™시스템에특허받은이중회전ICP플라즈마안테나기술적용.
Hawk™ 시스템에 자체 개발 이중 회전 나선형 ICP 안테나 플라즈마 소스 적용.Hawk™시스템에자체개발이중회전나선형ICP안테나플라즈마소스적용.
2001년 1월 기업부설연구소 설립 이후 지속적인 연구개발 투자 및 산학연 공동연구, 소자업체와의 공동개발 수행. 해외(미국)에도 연구개발 조직을 운영하며 제품 개발 및 기술 연구 활동 수행.2001년1월기업부설연구소설립이후지속적인연구개발투자및산학연공동연구,소자업체와의공동개발수행.해외(미국)에도연구개발조직을운영하며제품개발및기술연구활동수행.