기업 기본 정보
설립일자
2017-12-14
업종
반도체 제조용 기계 제조업
운영여부
운영중
업데이트
2025-12-04
기업 개요
- 한줄 요약
- 2018년 1월에 설립된 (주)이솔은 EUV 리소그래피를 위한 필수 EUV 솔루션을 선도하는 기업. EUV 소스, EUV 광학 및 시스템 엔지니어링 전문성을 바탕으로 반도체 산업의 비용 효율적인 EUV 생산을 지원하는 기술 기업. 혁신적인 EUV 기술을 통해 연구 개발 및 대량 생산 분야에 기여하는 솔루션 제공. 반도체 산업의 고성능, 저전력 반도체 생산에 필수적인 EUV 기술 발전에 기여하는 잠재력.2018년 1월에 설립된 (주)이솔은 EUV 리소그래피를 위한 필수 EUV 솔루션을 선도하는 기업. EUV 소스, EUV 광학 및 시스템 엔지니어링 전문성을 바탕으로 반도체 산업의 비용 효율적인 EUV 생산을 지원하는 기술 기업. 혁신적인 EUV 기술을 통해 연구 개발 및 대량 생산 분야에 기여하는 솔루션 제공. 반도체 산업의 고성능, 저전력 반도체 생산에 필수적인 EUV 기술 발전에 기여하는 잠재력.
- 대표 제품군/보유 기술
- EUV 소스 기술: EUV HHG 소스, Xe LPP, Sn LPP를 포함한 다양한 EUV 소스 기술 개발. 특히 HHG(High Harmonic Generation)는 낮은 발산과 작은 소스 크기로 높은 밝기를 제공하는 레이저와 유사한 코히어런트 EUV 소스. 이는 액티닉 리뷰 장비에 가장 적합하며, 낮은 제조 비용으로 고성능을 구현하는 특징.EUV 소스 기술: EUV HHG 소스, Xe LPP, Sn LPP를 포함한 다양한 EUV 소스 기술 개발. 특히 HHG(High Harmonic Generation)는 낮은 발산과 작은 소스 크기로 높은 밝기를 제공하는 레이저와 유사한 코히어런트 EUV 소스. 이는 액티닉 리뷰 장비에 가장 적합하며, 낮은 제조 비용으로 고성능을 구현하는 특징.
- EUV 마스크 결함 리뷰 시스템 (SREM - Scanning Reflection EUV Microscope): 미세 EUV 빔 스팟 스캐닝을 통해 이미지를 형성하며, EUV 마스크 패턴의 공중 이미지 분석 및 결함 검증에 활용. EUV 블랭크 결함 이동 및 크기 검증, 마스크 수명 모니터링, 블라인드 레이어 검증 등 다양한 애플리케이션에 적용.EUV 마스크 결함 리뷰 시스템 (SREM - Scanning Reflection EUV Microscope): 미세 EUV 빔 스팟 스캐닝을 통해 이미지를 형성하며, EUV 마스크 패턴의 공중 이미지 분석 및 결함 검증에 활용. EUV 블랭크 결함 이동 및 크기 검증, 마스크 수명 모니터링, 블라인드 레이어 검증 등 다양한 애플리케이션에 적용.
- Flex Ray EUV Microscope (FREM): 독일 Zeiss와 경쟁하여 일본 최대 포토마스크 제조사에 공급된 고성능 EUV 마스크 검사 장비. 이 장비는 Zeiss의 AIMS EUV 3.0과 동등한 스펙을 가지며, 고NA(0.55)에도 대응 가능한 기술력.Flex Ray EUV Microscope (FREM): 독일 Zeiss와 경쟁하여 일본 최대 포토마스크 제조사에 공급된 고성능 EUV 마스크 검사 장비. 이 장비는 Zeiss의 AIMS EUV 3.0과 동등한 스펙을 가지며, 고NA(0.55)에도 대응 가능한 기술력.
- EUV 마스크 위상 측정 시스템 (Ephase): 세계 최초 EUV 마스크 위상 측정 시스템으로 EUV PSM(Phase Shift Mask) 검증을 위한 핵심 장비. 5nm 이하 노드의 EUV 이미징 성능 최적화를 위한 PSM 생산에서 정확한 위상량 정량화에 필수적인 기술.EUV 마스크 위상 측정 시스템 (Ephase): 세계 최초 EUV 마스크 위상 측정 시스템으로 EUV PSM(Phase Shift Mask) 검증을 위한 핵심 장비. 5nm 이하 노드의 EUV 이미징 성능 최적화를 위한 PSM 생산에서 정확한 위상량 정량화에 필수적인 기술.
- EUV 펠리클 투과율 및 반사율 측정 시스템 (EUVPTR): EUV 펠리클 전체의 투과율과 반사율을 고속으로 측정하는 장비. 이는 펠리클 품질 모니터링 및 EUV 리소그래피 성능 향상에 기여하는 중요한 역할.EUV 펠리클 투과율 및 반사율 측정 시스템 (EUVPTR): EUV 펠리클 전체의 투과율과 반사율을 고속으로 측정하는 장비. 이는 펠리클 품질 모니터링 및 EUV 리소그래피 성능 향상에 기여하는 중요한 역할.
- EUV 마이크로 간섭 리소그래피 장비 (EMiLE): 반복적인 라인 또는 홀 패터닝을 위한 독립형 간섭 EUV 리소그래피 장비. EUV R&D 및 재료 개발 분야에서 5nm 이하의 해상도를 위한 비용 효율적인 EUV 패터닝 방법으로 활용.EUV 마이크로 간섭 리소그래피 장비 (EMiLE): 반복적인 라인 또는 홀 패터닝을 위한 독립형 간섭 EUV 리소그래피 장비. EUV R&D 및 재료 개발 분야에서 5nm 이하의 해상도를 위한 비용 효율적인 EUV 패터닝 방법으로 활용.
- 경쟁 우위 포인트
- EUV 소스, EUV 광학, 시스템 엔지니어링 분야의 독보적인 전문 지식과 기술력 보유. 이는 반도체 산업의 EUV 리소그래피 성공을 위한 필수 요소.EUV 소스, EUV 광학, 시스템 엔지니어링 분야의 독보적인 전문 지식과 기술력 보유. 이는 반도체 산업의 EUV 리소그래피 성공을 위한 필수 요소.
- 반도체 생산 및 리소그래피, 마스크 기술에 대한 깊은 이해를 바탕으로 혁신적인 솔루션 제공 능력. 고객의 요구에 맞는 최적의 기술 지원.반도체 생산 및 리소그래피, 마스크 기술에 대한 깊은 이해를 바탕으로 혁신적인 솔루션 제공 능력. 고객의 요구에 맞는 최적의 기술 지원.
- 고객 관점에서 비용 효율적인 EUV 생산을 위한 최적의 장비와 낮은 유지보수 비용 설계. 이는 고객의 투자 부담을 줄이는 중요한 요소.고객 관점에서 비용 효율적인 EUV 생산을 위한 최적의 장비와 낮은 유지보수 비용 설계. 이는 고객의 투자 부담을 줄이는 중요한 요소.
- 세계 최초 EUV 마스크 위상 측정 시스템(Ephase) 개발 및 FREM과 같은 차별화된 EUV 장비 라인업 구축. 이는 시장 내 기술적 우위 확보.세계 최초 EUV 마스크 위상 측정 시스템(Ephase) 개발 및 FREM과 같은 차별화된 EUV 장비 라인업 구축. 이는 시장 내 기술적 우위 확보.
- 독일 Zeiss와의 경쟁에서 승리하여 일본 최대 포토마스크 제조사에 EUV 마스크 검사 장비(FREM)를 공급하는 등 글로벌 최고 수준의 기술 경쟁력 입증. 이는 국제 시장에서의 신뢰도와 기술력 인정.독일 Zeiss와의 경쟁에서 승리하여 일본 최대 포토마스크 제조사에 EUV 마스크 검사 장비(FREM)를 공급하는 등 글로벌 최고 수준의 기술 경쟁력 입증. 이는 국제 시장에서의 신뢰도와 기술력 인정.
- 국내 유일의 EUV 장비 제조업체로서 EUV 광원부터 광학계, 관련 소프트웨어 및 나노 시스템에 이르는 대부분을 직접 개발 및 제작하는 역량 보유. 이는 기술 독립성과 빠른 개발 주기 확보.국내 유일의 EUV 장비 제조업체로서 EUV 광원부터 광학계, 관련 소프트웨어 및 나노 시스템에 이르는 대부분을 직접 개발 및 제작하는 역량 보유. 이는 기술 독립성과 빠른 개발 주기 확보.
- 다양한 EUV 액티닉 기능을 유연하게 구현할 수 있는 EUV 공통 플랫폼 개발 능력. 이는 고객 맞춤형 솔루션 제공의 기반.다양한 EUV 액티닉 기능을 유연하게 구현할 수 있는 EUV 공통 플랫폼 개발 능력. 이는 고객 맞춤형 솔루션 제공의 기반.
- 적용 산업
- 반도체 산업반도체 산업
- EUV 리소그래피 분야EUV 리소그래피 분야
- EUV 마스크 제작 및 검사EUV 마스크 제작 및 검사
- EUV 재료 개발 (EUV 레지스트, 언더레이어 개발 등)EUV 재료 개발 (EUV 레지스트, 언더레이어 개발 등)
- 고성능, 저전력 반도체 생산을 위한 첨단 기술 산업고성능, 저전력 반도체 생산을 위한 첨단 기술 산업
- 주요 시장
- 일본, 한국 (국내 유일 EUV 장비 제조업체로서 활동)일본, 한국 (국내 유일 EUV 장비 제조업체로서 활동)
- 인증/특허
- EUV 소스, EUV 광학 및 시스템 엔지니어링 분야의 핵심 기술력 보유. 이는 반도체 산업의 EUV 리소그래피 발전에 필수적인 역량.EUV 소스, EUV 광학 및 시스템 엔지니어링 분야의 핵심 기술력 보유. 이는 반도체 산업의 EUV 리소그래피 발전에 필수적인 역량.
- 세계 최초 EUV 마스크 위상 측정 시스템(Ephase) 개발 등 혁신적인 EUV 솔루션 개발 능력. 이는 기술적 선도력을 입증하는 사례.세계 최초 EUV 마스크 위상 측정 시스템(Ephase) 개발 등 혁신적인 EUV 솔루션 개발 능력. 이는 기술적 선도력을 입증하는 사례.
- 고성능, 저전력 반도체 생산에 필수적인 EUV 기술 발전에 기여하는 잠재력. 이는 미래 반도체 시장에서의 성장 가능성.고성능, 저전력 반도체 생산에 필수적인 EUV 기술 발전에 기여하는 잠재력. 이는 미래 반도체 시장에서의 성장 가능성.
- EUV 마스크 결함 리뷰 장비(FREM)를 일본 최대 포토마스크 제조사에 공급하며 글로벌 기술 경쟁력 입증. 이는 국제적인 기술 표준에 부합하는 수준.EUV 마스크 결함 리뷰 장비(FREM)를 일본 최대 포토마스크 제조사에 공급하며 글로벌 기술 경쟁력 입증. 이는 국제적인 기술 표준에 부합하는 수준.
- EUV 공통 플랫폼 개발을 통해 다양한 EUV 액티닉 기능을 유연하게 구현하는 기술적 강점. 이는 고객의 특정 요구에 대한 맞춤형 대응 능력.EUV 공통 플랫폼 개발을 통해 다양한 EUV 액티닉 기능을 유연하게 구현하는 기술적 강점. 이는 고객의 특정 요구에 대한 맞춤형 대응 능력.
기업 소개
기업 위치
경기도 화성시 동탄산단10길 45