ns laser

EV10 / EV10G / EV20

Wafer marking, photovoltaic scribing등 안정성이 요구되는 laser 응용 및 범용 laser marking을 적용할 목적으로 제작된 laser 모델입니다. 
Diode pumped solid-state laser로 종방향 펌핑(end-pumping) 방식을 채택하여 소형화가 가능하고 광자 효율이 높습니다.
또한 안정된 출력과 긴 수명의 장점이 있습니다.  이공냉을 통한 간편성을 추구하였고 장비 구축 시에도 다양한 핸들러와 적용라인에 적용하기 쉽도록 제작하였습니다.

 

 

V10 / V20 / V20G

차세대 레이저 마킹 기술을 적용하여 고속의 마킹, 식각, 에칭 작업에 탁월한 성능을 발휘합니다.
특히 green 마커는 LED package 마킹에 적합하며 초소형 마킹 가능한 최적의 솔루션을 제공합니다.

 

 

LV100G-R2

LV100G-R2는 고체 기반의 end-pumped 방식의 고품질, 고출력 및 high peak power의 ns 레이저 입니다.
Metal 및 반도체 cutting 장비에 적용 가능합니다.

 

 

i400 / i600 / i800 / i1600 / i3200

고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 1064nm 파장에서 400~3200W까지의 모델이 있습니다.
최대 3kW 이상의 피크 파워를 제공합니다.
또한 검증된 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 시스템은 OEM 장비 및 산업용 어플리케이션에 적합합니다.

 

 

 

g200 / g400

고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 532nm 파장에서의 높은 평균 출력 및 에너지를 제공 합니다.
또한 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 시스템은 산업용 어플리케이션에 이상적으로 적합한 플랫폼을 제공합니다.

 

 

 

u80 / u180

고체 기반의 다이오드 펌핑 방식 레이저로 355nm 파장에서 최대 180W의 높은 출력을 제공 가능 합니다.
또한 견고한 헤드 디자인 및 맞춤형 제어 방식은 산업용 어플리케이션에 이상적으로 적합한 플랫폼을 제공가능 합니다.